80年代初期出現(xiàn)的 MOS功率場效應(yīng)晶體管和功率集成電路的工作頻率達到兆赫級。集成電路的技術(shù)促進了器件的小型化和功能化。這些新成就為發(fā)展高頻電力電子技術(shù)提供了條件，推動電力電子裝置朝著智能化、高頻化的方向發(fā)展。

80年代發(fā)展起來的靜電感應(yīng)晶閘管、隔離柵晶體管，以及各種組合器件，綜合了晶閘管、 MOS功率場效應(yīng)晶體管和功率晶體管各自的優(yōu)點，在性能上又有新的發(fā)展。例如隔離柵晶體管,既具有MOS功率場效應(yīng)晶體管的柵控特性，又具有雙極型功率晶體管的電流傳導(dǎo)性能，它容許的電流密度比雙極型功率晶體管高幾倍。靜電感應(yīng)晶閘管保存了晶閘管導(dǎo)通壓降低的優(yōu)點，結(jié)構(gòu)上避免了一般晶閘管在門極觸發(fā)時必須在門極周圍先導(dǎo)通然后逐步橫向擴展的過程，所以比一般晶閘管有更高的開關(guān)速度，而且容許的結(jié)溫升也比普通晶閘管高。這些新器件，在更高的頻率范圍內(nèi)滿足了電力電子技術(shù)的要求。

功率集成電路其制造工藝既概括了***代功率電子器件向大電流、高電壓發(fā)展過程中所積累起來的各種經(jīng)驗，又綜合了大規(guī)模集成電路的工藝特點。這種器件很大程度地縮小了器件及其控制電路的體積，能夠有效地減少當器件處于高頻工作狀態(tài)時寄生參數(shù)的影響，對提高電路工作頻率和抑制外界干擾十分重要。 MOS管封裝技術(shù)也直接影響到芯片的性能和品質(zhì)，對同樣的芯片以不同形式的封裝，也能提高芯片的性能。嘉興12V至200V P MOSFET功率器件MOS產(chǎn)品選型產(chǎn)品選型

選擇mos管的重要參數(shù)

選擇MOS時至關(guān)重要的2個參數(shù)是導(dǎo)通電阻Rds(on) 和柵極電荷 Qg。決定 MOSFET 性能的其他一些重要參數(shù)是擊穿電壓、BVDSS 和體漏極二極管，當器件用作功率二極管時必須考慮這些參數(shù)，例如在同步續(xù)流操作模式下，以及可能影響開關(guān)時間和電壓尖峰的固有電容。

1、導(dǎo)通電阻，RDS(on)表示 MOS管 處于導(dǎo)通狀態(tài)時漏極和源極端子之間的電阻。傳導(dǎo)損耗取決于它，RDS(on) 的值越低，傳導(dǎo)損耗越低。

2、總柵極電荷，QG表示柵極驅(qū)動器打開/關(guān)閉器件所需的電荷。

3、品質(zhì)因數(shù)，F(xiàn)oM是 RDS(on) 和 QG 的乘積，說明了 MOSFET 的傳導(dǎo)損耗和開關(guān)損耗。因此，MOS管 的效率取決于 RDS(on) 和 QG。

4、擊穿電壓，BVDSS 中國臺灣應(yīng)用模塊功率器件MOS產(chǎn)品選型價格比較功率器件屬于分立器件，單獨封裝且功能不可拆分；功率IC則通過集成多個分立器件與外圍電路形成功能模塊。

功率MOS管選型需根據(jù)應(yīng)用場景、電壓、電流、熱性能等關(guān)鍵參數(shù)綜合考量。以下為具體步驟和要點：

選型步驟?

1.明確N/P溝道類型?N溝道適用于低壓側(cè)開關(guān)（如12V系統(tǒng)），P溝道適用于高壓側(cè)開關(guān)（如驅(qū)動電機）。 ?

2.確定額定電壓（VDS）?通常為總線電壓的1.5-2倍，需考慮溫度波動和瞬態(tài)電壓。 ?

3.計算額定電流（ID）?需滿足最大負載電流及峰值電流（建議留5-7倍余量）。 ?

4.評估導(dǎo)通損耗（RDS(on)）?導(dǎo)通電阻越低，損耗越小，建議優(yōu)先選擇RDS(on)≤0.5Ω的器件。

5.熱設(shè)計?滿負荷工作時表面溫度不超過120℃，需配合散熱措施。 ?

關(guān)鍵參數(shù)說明?柵極電荷（Qg）?：

1.影響開關(guān)速度和效率，需與驅(qū)動電路匹配。 ?

2.品質(zhì)因數(shù)（FoM）?：綜合考慮RDS(on)和Qg的平衡，F(xiàn)oM值越小越好。 ?

3.封裝選擇?：大功率需用TO-220或DPAK封裝，兼顧散熱和空間限制。

注意事項

并聯(lián)使用時需確保驅(qū)動能力匹配，避免因參數(shù)差異導(dǎo)致分流不均。 ?

避免串聯(lián)使用MOS管，防止耐壓不足引發(fā)故障。

平面結(jié)構(gòu)晶體管的缺點是如果提高額定電壓，漂移層會變厚，因此導(dǎo)通電阻會增加。MOSFET的額定電壓取決于垂直方向的漂移區(qū)的寬度和摻雜參數(shù)。為了提高額定電壓等級，通常增加漂移區(qū)的寬度同時降低摻雜的濃度，但會造成MOSFET的導(dǎo)通電阻大幅增加。同時，也是為了克服平面MOSFET的局限性，超結(jié)MOSFET應(yīng)運而生。超結(jié)MOSFET利用了一種創(chuàng)新的結(jié)構(gòu)設(shè)計，明顯降低了導(dǎo)通電阻，同時維持了高擊穿電壓。那么，接下來要重點討論超結(jié)MOSFET（super junction mosfet）。

超結(jié)MOS（Super Junction Metal-Oxide-Semiconductor，簡稱SJ-MOS）是電力電子領(lǐng)域中廣泛應(yīng)用的一類功率器件，其主要特征是在傳統(tǒng)MOSFET基礎(chǔ)上引入了超結(jié)結(jié)構(gòu)，使其在高電壓、大電流條件下具備更優(yōu)越的性能。超結(jié)MOS器件相較于傳統(tǒng)的MOSFET有著更低的導(dǎo)通電阻和更高的耐壓性能，廣泛應(yīng)用于高效能電力轉(zhuǎn)換領(lǐng)域，如開關(guān)電源、逆變器、電動汽車、光伏發(fā)電等。 功率器件廣泛應(yīng)用于需高效電能轉(zhuǎn)換的場景。

超結(jié)MOSFET的發(fā)展方向

1、更高的集成度通過更高的集成度，可以在更小的芯片面積上實現(xiàn)更高的性能，從而進一步降低成本和提高效率。2、更優(yōu)的材料新材料的研究和應(yīng)用會帶來超結(jié)MOSFET性能的進一步提升。例如，碳化硅（SiC）和氮化鎵（GaN）等新型半導(dǎo)體材料可能會在未來得到廣泛應(yīng)用。

3、更智能的控制技術(shù)隨著智能控制技術(shù)的發(fā)展，超結(jié)MOSFET可能會在電路設(shè)計中實現(xiàn)更高效、更智能的應(yīng)用，提高系統(tǒng)的整體性能和可靠性。Si-MOSFET在導(dǎo)通電阻和額定電壓方面落后于IGBT和SiC-MOSFET，但非常適合在中低功率水平下的高速運行。超級結(jié)MOS管具有高耐壓、低電阻優(yōu)點，對于相同的擊穿電壓和芯片尺寸，超級結(jié)MOS管的導(dǎo)通電阻遠小于普通高壓VDMOS，所以常用于高能效和高功率密度的快速開關(guān)應(yīng)用中。 TO-251 中小功率表面貼裝，尺寸緊湊（類似SOT-89），用于消費電子輔助電路。中山PD 快充功率器件MOS產(chǎn)品選型技術(shù)指導(dǎo)

插入式封裝與表面貼裝式封裝各有優(yōu)劣，但隨著表面貼裝技術(shù)的進步，提供了更多的安裝和散熱解決方案。嘉興12V至200V P MOSFET功率器件MOS產(chǎn)品選型產(chǎn)品選型

單個電力電子器件能承受的正、反向電壓是一定的，能通過的電流大小也是一定的。因此，由單個電力電子器件組成的電力電子裝置容量受到限制。所以，在實用中多用幾個電力電子器件串聯(lián)或并聯(lián)形成組件，其耐壓和通流的能力可以成倍地提高，從而可極大地增加電力電子裝置的容量。器件串聯(lián)時，希望各元件能承受同樣的正、反向電壓；并聯(lián)時則希望各元件能分擔同樣的電流。但由于器件的個異性，串、并聯(lián)時，各器件并不能完全均勻地分擔電壓和電流。所以，在電力電子器件串聯(lián)時，要采取均壓措施；在并聯(lián)時，要采取均流措施。嘉興12V至200V P MOSFET功率器件MOS產(chǎn)品選型產(chǎn)品選型