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四川全國發(fā)貨美國IONPURE EDI模塊種類

來源: 發(fā)布時間:2025-08-18

美國ionpureLXM45Z EDI模塊裝置將給水分成三股**的水流:純水、濃水、和極水。純水(90%-95%)為**終得到水,濃水(5%-10%)可以再循環(huán)處理,極水(1%)排放掉。

   美國ionpureLXM45Z EDI模塊裝置屬于精處理水系統(tǒng),一般多與反滲透(RO)配合使用,組成預處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統(tǒng),取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備。EDI裝置進水要求為電阻率為0.025-0.5MΩ·cm,反滲透裝置完全可以滿足要求。EDI裝置可生產(chǎn)電阻率高達15MΩ·cm以上的超純水。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保購買品質(zhì)有保證。四川全國發(fā)貨美國IONPURE EDI模塊種類

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美國Ionpure EDI模塊工作主要有三個過程:

a.  淡水進入淡水室后,淡水中的離子與混床樹脂發(fā)生交換,從而從水中脫離;

b.  被交換的離子受電性吸引作用,陽離子穿過陽離子交換膜向陰極遷移,陰離子穿過陰離子交換膜向陽極遷移,并進入濃水室從而從淡水中去除。

離子進入濃水室后,由于陽離子無法穿過陰離子交換膜,因此其將被截留在濃水室,同樣,陰離子無法穿過陽離子交換膜,被截留在濃水室,這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊;此外,由于進水中的離子被不斷地去除,那么淡水的純度將不斷提高,在由模塊出來的時候,其純度可以達到接近理論純水的水平。 四川全國發(fā)貨美國IONPURE EDI模塊種類美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保質(zhì)量材質(zhì)上乘。

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美國ionpureEDI模塊的進水指標:

◎通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水

◎TEA(總可交換陰離子,以CaCO3計):<25ppm。

◎電導率:<40μS/cm

◎PH:6.0~9.0。當總硬度低于0.1ppm時,EDI比較好工作的pH范圍為8.0~9.0。

◎溫度:5~35℃。

◎進水壓力:<4bar(60psi)。

◎硬度:(以CaCO3計):<1.0ppm。

◎有機物(TOC):<0.5ppm。

◎氧化劑:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm。

◎變價金屬:Fe<0.01ppm,Mn<0.02ppm。

◎H2S:<0.01ppm。

◎二氧化硅:<0.5ppm。

◎色度:<5APHA。

◎二氧化碳的總量:<10ppm。

◎ SDI15min:<1.0。

清洗

隨著工作時間的累積,需要對美國IonpureEDI模塊進行清洗及消毒,這是因為:

-硬度或金屬結(jié)垢,主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi);

-在離子交換樹脂或膜形成無機物污垢(例如,硅);

-在離子交換樹脂或膜形成有機物污垢;

- EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢;

-以上所有情況一起出現(xiàn)在某些情況下,需要使用一種以上的清洗方法。

高溫消毒

  美國IonpureEDI模塊可以在高溫(80°C/176°F)情況下進行消毒,消毒說明將同時提供給用戶。

例行的消毒比較好使用高溫消毒。低濃度的氧化劑消毒不可用于例行的消毒,只適用于嚴重的生物污堵的消毒,消毒時先進行低濃度氧化劑消毒,再用高PH清洗。 上海純超環(huán)保出售原裝進口美國IONPURE EDI模塊。

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    根據(jù)美國IONPURE IP-LXM45ZEDI模塊系統(tǒng)的運行狀態(tài),EDI系統(tǒng)的清洗采用酸洗—消毒—堿洗的方法來清洗EDI模塊。

1.

  清洗時,EDI系統(tǒng)的淡水室、濃水室和極水室都需要清洗。即清洗液從“原水進”和”濃水進”清洗口進入EDI,從“產(chǎn)水”、“濃水出”、“極水出”回到清洗水箱。(正洗)

2.

***步 酸洗:清洗水箱中配制2.0%鹽酸溶液,循環(huán)30分鐘。

      沖洗:清洗水箱中酸洗液放掉后,將水箱中水沖洗至中性,然后將清洗進和回流管清洗到回流水至中性。

第二步 消毒:清洗水箱中配制0.2%的H2O2溶液(約用25% H2O2的濃10kg)循環(huán)50分鐘。

      沖洗:清洗水箱中消毒液放掉后,清洗EDI至水箱中回流水至電導率降至100μs/cm以下。

第三步:堿洗:水箱中配制1.2%NaOH+5.0%NaCL 的溶液,循環(huán)50分鐘。

      沖洗:清洗水箱中消毒液放掉后,清洗EDI至水箱中回流水至電導率降至100μs/cm以下。


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如果電壓降低或是進水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會更多的和離子發(fā)生交換,相應的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動,直至達到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導會發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會向進水側(cè)發(fā)生移動,表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來實現(xiàn),并可以通過工作區(qū)間的移動來解釋。

     濃水流量的變化是另一個調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Si也有一定關(guān)系。由于Si在25℃,pH值是6~8的水體中的溶解度是120mg/L。所以進水的濃縮倍率達到一定程度后,Si在濃水中就會飽和,導致不能進行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。 四川全國發(fā)貨美國IONPURE EDI模塊種類

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