熱紅外顯微鏡(Thermal EMMI)的突出優(yōu)勢一：

熱紅外顯微鏡（Thermal emmi ）能夠檢測到極其微弱的熱輻射和光發(fā)射信號，其靈敏度通常可以達到微瓦甚至納瓦級別。同時，它還具有高分辨率的特點，能夠分辨出微小的熱點區(qū)域，分辨率可以達到微米甚至納米級別。具備極高的探測靈敏度，能夠捕捉微瓦級甚至納瓦級的熱輻射與光發(fā)射信號，適用于識別早期故障及微小異常。同時，該技術具有優(yōu)異的空間分辨能力，能夠準確定位尺寸微小的熱點區(qū)域，其分辨率可達微米級，部分系統(tǒng)也已經可實現(xiàn)納米級識別。通過結合熱圖像與光發(fā)射信號分析，熱紅外顯微鏡為工程師提供了精細、直觀的診斷工具，大幅提升了故障排查與性能評估的效率和準確性。 熱紅外顯微鏡的 AI 智能分析模塊，自動標記異常熱斑并匹配歷史失效數據庫。國產熱紅外顯微鏡校準方法

熱紅外顯微鏡和紅外顯微鏡并非同一事物，二者是包含與被包含的關系。紅外顯微鏡是個廣義概念，涵蓋利用0.75-1000微米紅外光進行分析的設備，依波長分近、中、遠紅外等，通過樣品對紅外光的吸收、反射等特性分析化學成分，比如識別材料中的官能團，應用于材料科學、生物學等領域。而熱紅外顯微鏡是其分支，專注7-14微米的熱紅外波段，無需外部光源，直接探測樣品自身的熱輻射，依據黑體輻射定律生成溫度分布圖像，主要用于研究溫度分布與熱特性，像定位電子芯片的熱點、分析復合材料熱傳導均勻性等。前者側重成分分析，后者聚焦熱特性研究。國產熱紅外顯微鏡校準方法熱紅外顯微鏡能夠探測到亞微米級別的熱異常，檢測精度極高 。

半導體制程已逐步進入 3 納米及更先進階段，芯片內部結構日趨密集，供電電壓也持續(xù)降低，這使得微觀熱行為對器件性能的影響變得更為明顯。致晟光電熱紅外顯微鏡是在傳統(tǒng)熱發(fā)射顯微鏡基礎上，經迭代進化而成的精密工具。在先進制程研發(fā)中，它在應對熱難題方面能提供一定支持，在芯片設計驗證、失效排查以及性能優(yōu)化等環(huán)節(jié)，都能發(fā)揮相應的作用。其通過不斷優(yōu)化的技術，適應了先進制程下對微觀熱信號檢測的需求，為相關研發(fā)工作提供了有助于分析和解決問題的熱分布信息，助力研發(fā)人員更好地推進芯片相關的研究與改進工作。

非破壞性分析（NDA）以非侵入方式分析樣品內部結構和性能，無需切割、拆解或化學處理，能保留樣品完整性，為后續(xù)研究留有余地，在高精度、高成本的半導體領域作用突出。

無損分析，通過捕捉樣品自身紅外熱輻射成像，全程無接觸，無需對晶圓、芯片等進行破壞性處理。在半導體制造中，可識別晶圓晶體缺陷；封裝階段，能檢測焊接點完整性或封裝層粘結質量；失效分析時，可定位內部短路或斷裂區(qū)域的隱性熱信號，為根源分析提供依據，完美適配半導體行業(yè)對高價值樣品的保護需求。 半導體芯片內部缺陷定位是工藝優(yōu)化與失效分析的關鍵技術基礎。

非制冷熱紅外顯微鏡基于微測輻射熱計，無需低溫制冷裝置，具有功耗低、維護成本低等特點，適合長時間動態(tài)監(jiān)測。其通過鎖相熱成像等技術優(yōu)化后，雖靈敏度（通常 0.01-0.1℃）和分辨率（普遍 5-20μm）略遜于制冷型，但性價比更高，。與制冷型對比，非制冷型無需制冷耗材，適合 PCB、PCBA 等常規(guī)電子元件失效分析；而制冷型（如 RTTLIT P20）靈敏度達 0.1mK、分辨率低至 2μm，價格高，多用于半導體晶圓等檢測。非制冷熱紅外顯微鏡在中低端工業(yè)檢測領域應用較多。熱紅外顯微鏡通過熱成像技術，快速定位 PCB 板上的短路熱點 。非制冷熱紅外顯微鏡設備廠家

量化 SiC、GaN 等寬禁帶半導體的襯底熱阻、結溫分布，優(yōu)化散熱設計。國產熱紅外顯微鏡校準方法

熱紅外顯微鏡（Thermal EMMI) 也是科研與教學領域的利器，其設備能捕捉微觀世界的熱信號。它將紅外探測與顯微技術結合，呈現(xiàn)物體表面溫度分布，分辨率達微米級，可觀察半導體芯片熱點、電子器件熱分布等。非接觸式測量是其一大優(yōu)勢，無需與被測物體直接接觸，避免了對樣品的干擾，適用于多種類型的樣品檢測。實時成像功能可追蹤動態(tài)熱變化，如材料相變、化學反應熱釋放。在高校，熱紅外顯微鏡助力多學科實驗；在企業(yè)，為產品研發(fā)和質量檢測提供支持，推動各領域創(chuàng)新突破。 國產熱紅外顯微鏡校準方法