致晟光電熱紅外顯微鏡（Thermal EMMI）系列中的 RTTLIT P20 實時瞬態(tài)鎖相熱分析系統(tǒng)，采用鎖相熱成像（Lock-inThermography）技術(shù)，通過調(diào)制電信號提升特征分辨率與靈敏度，并結(jié)合軟件算法優(yōu)化信噪比，實現(xiàn)顯微成像下超高靈敏度的熱信號測量。RTTLIT P20搭載100Hz高頻深制冷型超高靈敏度顯微熱紅外成像探測器，測溫靈敏度達(dá)0.1mK，顯微分辨率低至2μm，具備良好的檢測靈敏度與測試效能。該系統(tǒng)重點(diǎn)應(yīng)用于對測溫精度和顯微分辨率要求嚴(yán)苛的場景，包括半導(dǎo)體器件、晶圓、集成電路、IGBT、功率模塊、第三代半導(dǎo)體、LED及microLED等的失效分析，是電子集成電路與半導(dǎo)體器件失效分析及缺陷定位領(lǐng)域的關(guān)鍵工具。量化 SiC、GaN 等寬禁帶半導(dǎo)體的襯底熱阻、結(jié)溫分布，優(yōu)化散熱設(shè)計。非制冷熱紅外顯微鏡廠家電話

熱紅外顯微鏡在半導(dǎo)體IC裸芯片熱檢測中發(fā)揮著關(guān)鍵作用。對于半導(dǎo)體IC裸芯片而言，其內(nèi)部結(jié)構(gòu)精密且集成度高，微小的熱異常都可能影響芯片性能甚至導(dǎo)致失效，因此熱檢測至關(guān)重要。熱紅外顯微鏡能夠非接觸式地對裸芯片進(jìn)行熱分布成像與分析，清晰捕捉芯片工作時的溫度變化情況。它可以定位芯片上的熱點(diǎn)區(qū)域，這些熱點(diǎn)往往是由電路設(shè)計缺陷、局部電流過大或器件老化等問題引起的。通過對熱點(diǎn)的檢測和分析，工程師能及時發(fā)現(xiàn)芯片潛在的故障風(fēng)險，為優(yōu)化芯片設(shè)計、改進(jìn)制造工藝提供重要依據(jù)。同時，該顯微鏡還能測量裸芯片內(nèi)部關(guān)鍵半導(dǎo)體結(jié)點(diǎn)的溫度，也就是結(jié)溫。結(jié)溫是評估芯片性能和可靠性的重要參數(shù)，過高的結(jié)溫會縮短芯片壽命，影響其穩(wěn)定性。熱紅外顯微鏡憑借高空間分辨率的熱成像能力，可實現(xiàn)對結(jié)溫的測量，幫助研發(fā)人員更好地掌握芯片的熱特性，從而制定合理的散熱方案，提升芯片的整體性能與可靠性。非制冷熱紅外顯微鏡圖像分析熱紅外顯微鏡結(jié)合多模態(tài)檢測（THERMAL/EMMI/OBIRCH），實現(xiàn)熱 - 電信號協(xié)同分析定位復(fù)合缺陷。

相較于宏觀熱像儀（空間分辨率約50-100μm），熱紅外顯微鏡通過顯微光學(xué)系統(tǒng)將分辨率提升至1-10μm，且支持動態(tài)電激勵與鎖相分析，能深入揭示微觀尺度的熱-電耦合失效機(jī)理。例如，傳統(tǒng)熱像儀能檢測PCB表面的整體熱分布，而熱紅外顯微鏡可定位某一焊點(diǎn)內(nèi)部的微裂紋導(dǎo)致的局部過熱。技術(shù)發(fā)展趨勢當(dāng)前，熱紅外顯微鏡正朝著更高靈敏度（如量子點(diǎn)探測器提升光子捕捉能力）、多模態(tài)融合（集成EMMI光子探測、OBIRCH電阻分析）及智能化方向發(fā)展，部分設(shè)備已內(nèi)置AI算法自動標(biāo)記異常熱點(diǎn)，為半導(dǎo)體良率提升、新能源汽車電驅(qū)系統(tǒng)熱管理等應(yīng)用提供更高效的解決方案。

致晟光電在推動產(chǎn)學(xué)研一體化進(jìn)程中，積極開展校企合作。公司依托南京理工大學(xué)光電技術(shù)學(xué)院，專注開發(fā)基于微弱光電信號分析的產(chǎn)品及應(yīng)用。雙方聯(lián)合攻克技術(shù)難題，不斷優(yōu)化實時瞬態(tài)鎖相紅外熱分析系統(tǒng)（RTTLIT），使該系統(tǒng)溫度靈敏度可達(dá)0.0001℃，功率檢測限低至1uW，部分功能及參數(shù)優(yōu)于進(jìn)口設(shè)備。此外，致晟光電還與其他高校建立合作關(guān)系，搭建起學(xué)業(yè)-就業(yè)貫通式人才孵化平臺。為學(xué)生提供涵蓋研發(fā)設(shè)計、生產(chǎn)實踐、項目管理全鏈條的育人平臺，輸送了大量實踐能力強(qiáng)的專業(yè)人才，為企業(yè)持續(xù)創(chuàng)新注入活力。通過建立科研成果產(chǎn)業(yè)孵化綠色通道，高校的前沿科研成果得以快速轉(zhuǎn)化為實際生產(chǎn)力，實現(xiàn)了高校科研資源與企業(yè)市場轉(zhuǎn)化能力的優(yōu)勢互補(bǔ)。

熱紅外顯微鏡在電子產(chǎn)品研發(fā)階段，輔助優(yōu)化熱管理方案 。

熱紅外是紅外光譜中波長介于 3–18 微米的譜段，其能量主要來自物體自身的熱輻射，而非對外界光源的反射。該波段可細(xì)分為中紅外（3–8?μm）、長波紅外（8–15?μm）和超遠(yuǎn)紅外（15–18?μm），其熱感應(yīng)本質(zhì)源于分子熱振動產(chǎn)生的電磁波輻射，輻射強(qiáng)度與物體溫度正相關(guān)。在應(yīng)用上，熱紅外利用大氣窗口（3–5?μm、8–14?μm）實現(xiàn)高精度的地表遙感監(jiān)測，并廣泛應(yīng)用于熱成像、氣體探測等領(lǐng)域。現(xiàn)代設(shè)備如 TIRS-2 和 O-PTIR 等，已將熱紅外技術(shù)的空間分辨率提升至納米級水平。

熱紅外顯微鏡對集成電路進(jìn)行熱檢測，排查內(nèi)部隱藏故障 。熱紅外顯微鏡價格

熱紅外顯微技術(shù)可透過硅片或封裝材料，實現(xiàn)非接觸式熱斑定位。非制冷熱紅外顯微鏡廠家電話

非破壞性分析（NDA）以非侵入方式分析樣品內(nèi)部結(jié)構(gòu)和性能，無需切割、拆解或化學(xué)處理，能保留樣品完整性，為后續(xù)研究留有余地，在高精度、高成本的半導(dǎo)體領(lǐng)域作用突出。

無損分析，通過捕捉樣品自身紅外熱輻射成像，全程無接觸，無需對晶圓、芯片等進(jìn)行破壞性處理。在半導(dǎo)體制造中，可識別晶圓晶體缺陷；封裝階段，能檢測焊接點(diǎn)完整性或封裝層粘結(jié)質(zhì)量；失效分析時，可定位內(nèi)部短路或斷裂區(qū)域的隱性熱信號，為根源分析提供依據(jù)，完美適配半導(dǎo)體行業(yè)對高價值樣品的保護(hù)需求。 非制冷熱紅外顯微鏡廠家電話