高精密平面研磨機(jī)可以實(shí)現(xiàn)鏡面效果,光潔度可以比較高達(dá)到，加工范圍很廣，可以對(duì)藍(lán)寶石襯底，水晶，硅片，光電材料，光學(xué)玻璃，手機(jī)玻璃，手機(jī)觸摸屏，陶瓷片，石英片，石墨密封環(huán)，硅晶圓等非金屬材質(zhì)進(jìn)行雙面研磨，還能對(duì)銅材，鐵，鋁材，不銹鋼，模具鋼，塑料，鋁合金，鋅合金，鈦合金，鎳合金，錫合金，硬質(zhì)合金，碳鋼，鎢鋼等各種金屬材質(zhì)進(jìn)行雙面研磨加工。高精密平面研磨機(jī)采用獨(dú)特的安全鎖緊機(jī)構(gòu),防止意外斷氣、斷電而“掉盤”傷人的意外發(fā)生,主要用于各類型的鋁材面拋光，有平面、斜面、圓面、圓弧面以及凹槽面及其他。根據(jù)所加工的要求可以選用適合要求的拋光輪來(lái)滿足工件所需要的高速有效的去除掉擠壓痕、自然氧化膜，同時(shí)具備拋光的功能,該系列拋光機(jī)已被廣的用于各類如LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、不銹鋼等等各類材料的單面的研磨。海德平面研磨拋光機(jī)HD-610屬高精密平面研磨機(jī)，研磨機(jī)的精密度為平面度可達(dá)，粗糙度可達(dá)。廣用于藍(lán)寶石鐘表玻璃、手機(jī)玻璃、光學(xué)玻璃晶片、LED藍(lán)寶石襯底、陶瓷板、活塞環(huán)、閥片、鋁鐵硼、鐵氧體、鈮酸鋰、鉭酸鋰、PTC熱敏電阻、光盤基片、陶瓷密封環(huán)、硬質(zhì)合金密封環(huán)、鎢鋼片、等各種材料的單雙面研磨拋光。

     深圳銘豐慶集平面磨五金加工生產(chǎn)和銷售為一體，歡迎您的來(lái)電！廣東精密加工平面打磨

    平面拋光機(jī)在使用磨料進(jìn)行加工的各道研磨工序中，被研表面光潔度主要是大量磨粒切削刃尖在被研表面上所形成的無(wú)數(shù)切痕互相重迭的結(jié)果。從總的方面來(lái)說(shuō)，被研表面光潔度的高低，取決于磨粒的粗細(xì)，或者說(shuō)取決于磨粒壓下工件表面的深度及通過(guò)工件單位橫截表面的有效磨粒數(shù)量。但在實(shí)際研磨過(guò)程中，并不僅是選擇了細(xì)的磨料(如)，就能研出理想的表面光潔度來(lái)(如▽14)，還有很多因素影響工件在平面拋光機(jī)中的研磨質(zhì)量。試作如下分析：選擇合適的磨料粒度磨料的粒度愈小，獲得的表面光潔度就愈高。如要進(jìn)一步提高表面光潔度，可對(duì)使用的磨料再次分選，這樣使磨粒的大小均勻程度及基本顆粒的數(shù)量比，都可以得到改善。對(duì)一般的敷砂研磨來(lái)說(shuō)，滾動(dòng)的磨粒數(shù)量愈少，表面光潔度愈就高。為了提高表面光潔度，可用浸煤油的棉花將敷砂粒擦凈，再作一次干研磨，其加工量為～1微米。當(dāng)研磨軟質(zhì)材料工件時(shí)，磨粒容易嵌入工件表面，使研痕加深，從而破壞了表面光潔度。為了得到較高的表面光潔度，可采用嵌砂研具或者材質(zhì)軟的研具進(jìn)行研磨。一般說(shuō)來(lái)，被研表面光潔度是隨著被研工件材料硬度的增加而得到改善的，因此，對(duì)于淬硬鋼工件表面光潔度的提高，可通過(guò)提高淬火硬度的方法來(lái)達(dá)到。

    廣東五金精密磨平面加工深圳銘豐慶為您供應(yīng)五金平面精密磨加工，期待為您服務(wù)！

    淺談平面超精研磨工藝煤直接液化裝置上用的金屬密封球閥,其嚴(yán)苛工況對(duì)密封面粗糙度和平面度提出更高的要求，采用傳統(tǒng)的研磨工藝，加工后的零件表面粗糙度只達(dá)到，無(wú)法滿足超精密封技術(shù)要求，超精研磨工藝研究已然成為閥門行業(yè)的一個(gè)重要課題。下面對(duì)平面密封面技術(shù)要求進(jìn)行簡(jiǎn)要分析以規(guī)格為6"，2500LB煤化工樣機(jī)平面密封面技術(shù)要求為例，其閥體和閥座零件密封面材質(zhì)分別為STL21和NI-WC，硬度均≥45HRC，光潔度要求，平面度要求。尤其閥體平面密封面處于內(nèi)孔底面，具體如圖1所以，技術(shù)要求難點(diǎn)主要體現(xiàn)在如下兩方面：(1)平面度要求較高。采用車削加工方式，在切削條件理想狀態(tài)下精度可保持在(因密封面所處位置原因，無(wú)法采用磨削方式加工)。(2)粗糙度要求較高。常規(guī)切削方式粗糙度保持在，無(wú)法達(dá)到。超精研磨加工在結(jié)合傳統(tǒng)的研磨工藝基礎(chǔ)上超精研磨各個(gè)工藝環(huán)節(jié)的影響因素進(jìn)行分析，形成圖2所示超精研磨工藝的輸入樹形結(jié)構(gòu)圖。研磨劑(1)磨料碳化硼(B4C)是已知堅(jiān)硬的三種材料之一，具有高硬度、高耐磨性和易碎性較低等特性，并且在研磨過(guò)程中破碎后仍保持一定的鋒刃，可作為硬質(zhì)合金材料(尤其對(duì)于NI-WC密封面，其硬度≥63HRC)研磨磨料優(yōu)先。

    研磨運(yùn)動(dòng)應(yīng)該保證工件能夠均勻地接觸帶研磨拋光盤的全部表面。這樣可使其能夠表面均勻受載、均勻磨損，因而還才可以長(zhǎng)久地保持研具本身的表面精度。在研磨運(yùn)動(dòng)中，研具與工件之間應(yīng)處于還處于浮動(dòng)的狀態(tài)，而不應(yīng)是強(qiáng)制的限位狀態(tài)。這樣可以使工件與研磨拋光盤的表面能夠更好地接觸，把研具表面的幾何形狀能夠準(zhǔn)確有效地傳遞給工件，從而不會(huì)受到研磨拋光機(jī)本身精度的過(guò)多影響。研磨運(yùn)動(dòng)應(yīng)保證工件受到均勻研威即被研工件表面上的每一點(diǎn)所運(yùn)動(dòng)的路程應(yīng)相等。這就需要研磨運(yùn)動(dòng)比較好能夠作平面平行運(yùn)動(dòng)，而這種運(yùn)動(dòng)是能夠可使工件表面上任意兩點(diǎn)的連成線，在整個(gè)研磨運(yùn)動(dòng)中，都能夠始終保持平行，這對(duì)于保證工件的幾何形狀的精度以及尺寸均勻程度來(lái)說(shuō)是至為重要的。所選用的研磨運(yùn)動(dòng)應(yīng)使運(yùn)動(dòng)軌跡不斷有規(guī)律地改變方向，盡量避免過(guò)早地出現(xiàn)重復(fù)。這樣可以就可以使工件表面上的無(wú)數(shù)的切削條痕能夠有規(guī)律地相互交錯(cuò)抵消，慢慢的越研越平，進(jìn)而達(dá)到提高工件所要求的人表面精度的終目的。在研磨拋光機(jī)運(yùn)動(dòng)時(shí)，研磨運(yùn)動(dòng)還應(yīng)該根據(jù)不同的研磨工藝要求，具體的選取比較好運(yùn)動(dòng)研磨速度。比如，當(dāng)進(jìn)行加工細(xì)長(zhǎng)的大尺寸工件的時(shí)候，需要選取低速研磨，主要是由于所得到精度更高。為防止研磨過(guò)程中磨料鑲嵌密封面表面，采用羊毛氈拋光輪上沾一定金屬拋光膏拋光，達(dá)到清理表面殘余磨料。

    選擇正確的研磨運(yùn)動(dòng)軌跡，關(guān)于研磨運(yùn)動(dòng)軌跡的種類與特點(diǎn)，在前面已講過(guò)，實(shí)踐表明，不同的研磨軌跡對(duì)被研表面光潔度的影響亦不同，其中，直線往復(fù)式研出的表面光潔度比較低，這是出為運(yùn)動(dòng)的方向性強(qiáng)，單純的直線往復(fù)運(yùn)動(dòng)其研磨紋路足平行的，如使切痕重復(fù)加深，則不利于表面光潔度的改善。而其它如擺線式、正弦曲線式及不規(guī)則圓環(huán)線式研磨軌跡的共同特點(diǎn)是，運(yùn)動(dòng)的方向在不斷地變化，研磨紋路是縱橫交錯(cuò)的，在一定的研磨條件下，可研出較理想的表面光潔度來(lái)。實(shí)踐表明，在所用壓力范圍內(nèi)工件表面光潔度隨著研磨壓力的增加而降低。從某種意義上說(shuō)，研磨的切削能力和工件表面光潔度是由研磨壓力來(lái)決定的。對(duì)于研磨壓力的增加，在同樣研磨條件下磨粒承受的載荷也增加。如果研磨壓力過(guò)大，使磨粒切入深度加深，切削作用加快，磨料的粉碎也加快，這時(shí)工件所獲得的表面光潔度就較差。為此，要獲得較高的表面光潔度，則需合理地選擇研磨壓力。在選擇研磨壓力時(shí)，首先應(yīng)按工件的精度要求，來(lái)選擇合理的研磨速度，被研材料的硬度及潤(rùn)滑劑的選用等。在平面研主要原因機(jī)加工工件時(shí)，除了上述影響因素以外，研具的質(zhì)量。 適合于超精研磨用研具，但不允許存在縮孔、縮松以及氣孔、夾砂、砂眼、斷裂等鑄造缺陷。重慶精密平面加工廠家

具體分析為磨粒具有一定的抗壓強(qiáng)度極限，當(dāng)超過(guò)此極限時(shí)就會(huì)被壓碎，使磨料變細(xì)，研磨能力下降。廣東精密加工平面打磨

    拋光液的性能對(duì)工件雙面拋光的影響拋光液的性能直接影響到拋光后工件的表面質(zhì)量，是雙面拋光的關(guān)鍵要素之一。拋光液一般包括超細(xì)的固體磨粒(如納米A120:及Si0:磨粒等)、表面活性劑以及氧化劑和穩(wěn)定劑等幾部分，其中固體磨粒產(chǎn)生切削作用，去除發(fā)生化學(xué)變化需要切除的部位，氧化劑產(chǎn)生化學(xué)腐蝕溶解作用，溶解切屑。在拋光過(guò)程中，拋光液中磨粒的種類、形狀、大小、濃度、化學(xué)成分、PH值、粘度、流速和流動(dòng)的途徑都會(huì)對(duì)去除速度產(chǎn)生影響。對(duì)不同材料的工件進(jìn)行拋光時(shí)，所需要拋光液的成份、PH值也不盡相同同。PH值影響工件的表面質(zhì)量和去除率表現(xiàn)在對(duì)磨料的分解與溶解度、被拋表面刻蝕及氧化膜的形成、懸浮度(膠體穩(wěn)定性)等方面，因此需要嚴(yán)格控制拋光液的PH值。當(dāng)處于拋光氧化物時(shí)，拋光液一般選取Si0:作為磨料，PH值控制在10以上;而拋光金屬時(shí)，拋光液一般選用酸性的，保證PH值在較小的數(shù)值，以便保持極高的工件去除率。磨粒按硬度可分為軟磨粒和硬磨粒兩類。常用的磨粒包括氧化鋁系、碳化物系、超硬磨料系和軟磨料系4類。拋光用磨粒需具有下列性能:(1)磨粒形狀和尺寸均勻一致，保持在一定范圍;(2)磨粒的熔點(diǎn)要比工件的熔點(diǎn)高;(3)磨粒能適當(dāng)?shù)仄扑?，使切刃變鋒利。 廣東精密加工平面打磨