PE管是由聚乙烯樹脂制成,其成分主要為碳和氫兩種原子
煤礦井下作業(yè)環(huán)境的特殊性對管材的運(yùn)輸與存儲提出了嚴(yán)格要求。
技術(shù)創(chuàng)新是驅(qū)動企業(yè)發(fā)展的中心動力。
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在安裝煤礦井下管材之前,必須進(jìn)行充分的準(zhǔn)備工作。
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PE管道——加工性能穩(wěn)定,施工便捷的新標(biāo)志
PE給水管材的抗壓性能解析
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MOS管的優(yōu)點(diǎn)低功耗:MOS管的靜態(tài)功耗很低,因?yàn)樗鼈冎恍枰奈⑿〉碾娏鱽砭S持其狀態(tài)。這使得MOS管非常適合用于電池供電的設(shè)備,例如移動電話和筆記本電腦。高輸入阻抗:MOS管的輸入阻抗非常高,這意味著它們可以接受非常小的輸入信號,并且不會對信號產(chǎn)生影響。這使得MOS管非常適合用于放大器和傳感器等需要高靈敏度的應(yīng)用。高速開關(guān):MOS管的開關(guān)速度非??欤梢栽诩{秒級別內(nèi)完成開關(guān)操作。這使得MOS管非常適合用于高速數(shù)字電路和通信系統(tǒng)。集成度高:MOS管可以集成在單個(gè)芯片上,這使得它們非常適合用于集成電路(IC)和微處理器等需要高集成度的應(yīng)用??煽啃愿撸篗OS管的結(jié)構(gòu)簡單,沒有機(jī)械部件,因此它們的壽命非常長。此外,MOS管的制造工藝非常成熟,因此它們的制造成本相對較低。 MOS管可以用于放大、開關(guān)、濾波等電路。西藏汽車級MOS管廠家直銷
接下來我們再來看看NMOS的第二個(gè)重要參數(shù)Rdson,剛才有提到NMOS被完全打開的時(shí)候,它的電阻接近于零。但是無論多小,它總歸是有一個(gè)電阻值的,這就是所謂的Rdson。它指的是NMOS被完全打開之后,d、s之間的電阻值。同樣的你也可以在數(shù)據(jù)手冊上找到它。這個(gè)電阻值當(dāng)然是越小越好。越小的話呢,它分壓分的少,而且發(fā)熱也相對比較低。但實(shí)際情況一般Rdson越小,這個(gè)NMOS的價(jià)格就越高,而且一般對應(yīng)的體積也會比較大。所以還是要量力而行,選擇恰好合適。然后來說一下Cgs,這個(gè)是比較容易被忽視的一個(gè)參數(shù),它指的是g跟s之間的寄生電容。所有的NMOS都有,這是一個(gè)制造工藝的問題,沒有辦法被避免。那它會影響到NMOS打開速度,因?yàn)榧虞d到gate端的電壓,首先要給這個(gè)電容先充電,這就導(dǎo)致了g、s的電壓并不能一下子到達(dá)給定的一個(gè)數(shù)值。 貴州工業(yè)級MOS管廠價(jià)MOS管的漏極電流隨著柵極電壓的增加而增加。
MOS管的英文全稱叫MOSFET(MetalOxideSemiconductorFieldEffectTransistor),即金屬氧化物半導(dǎo)體型場效應(yīng)管,屬于場效應(yīng)管中的絕緣柵型。因此,MOS管有時(shí)被稱為絕緣柵場效應(yīng)管。在一般電子電路中,MOS管通常被用于放大電路或開關(guān)電路。MOS管的構(gòu)造在一塊摻雜濃度較低的P型半導(dǎo)體硅襯底上,用半導(dǎo)體光刻、擴(kuò)散工藝制作兩個(gè)高摻雜濃度的N+區(qū),并用金屬鋁引出兩個(gè)電極,分別作為漏極D和源極S。然后在漏極和源極之間的P型半導(dǎo)體表面復(fù)蓋一層很薄的二氧化硅(Si02)絕緣層膜,在再這個(gè)絕緣層膜上裝上一個(gè)鋁電極,作為柵極G。這就構(gòu)成了一個(gè)N溝道(NPN型)增強(qiáng)型MOS管。顯然它的柵極和其它電極間是絕緣的。
MOS管的特性1、開關(guān)特性。MOS管是壓控器件,作為開關(guān)時(shí),NMOS只要滿足Vgs>Vgs(th)即可導(dǎo)通,PMOS只要滿足Vgs2、開關(guān)損耗。MOS的損耗主要包括開關(guān)損耗和導(dǎo)通損耗,導(dǎo)通損耗是由于導(dǎo)通后存在導(dǎo)通電阻而產(chǎn)生的,一般導(dǎo)通電阻都很小。開關(guān)損耗是在MOS由可變電阻區(qū)進(jìn)入夾斷區(qū)的過程中,也就是MOS處于恒流區(qū)時(shí)所產(chǎn)生的損耗。開關(guān)損耗遠(yuǎn)大于導(dǎo)通損耗。減小損耗通常有兩個(gè)方法,一是縮短開關(guān)時(shí)間,二是降低開關(guān)頻率。3、由壓控所導(dǎo)致的的開關(guān)特性。由于制作工藝的限制,NMOS的使用場景要遠(yuǎn)比PMOS多,因此在將更適合于高驅(qū)動的PMOS替換成NMOS時(shí)便出現(xiàn)了問題。當(dāng)MOS導(dǎo)通時(shí),Vs=Vd=Vdd,此時(shí)要保持MOS的導(dǎo)通,就需要Vg>Vdd。在功率驅(qū)動電路中,MOS經(jīng)常開關(guān)的是電源電壓,或者說是系統(tǒng)中達(dá)到闕值電壓,此時(shí)要保證MOS的導(dǎo)通就需要額外升壓提供Vg。4、在寬電壓的應(yīng)用場景中,柵極的控制電壓很多時(shí)候是不確定的,為了保證MOS管的安全工作,很多MOS管內(nèi)置了穩(wěn)壓管來限制柵極的控制電壓。當(dāng)驅(qū)動電壓大于穩(wěn)壓管電壓時(shí),會額外增加管子的功耗。如果柵極控制電壓不足時(shí),則會導(dǎo)致管子開關(guān)不徹底,也會增加管子功耗。 mos管柵極電阻選取方法。
MOS管集成電路電阻的應(yīng)用1多晶硅電阻集成電路中的單片電阻器距離理想電阻都比較遠(yuǎn),在標(biāo)準(zhǔn)的MOS管工藝中,理想的無源電阻器是多晶硅條。ρ為電阻率;t為薄板厚度;R□=(ρ/t)為薄層電阻率,單位為Ω/□;L/W為長寬比。由于常用的薄層電阻很小,通常多晶硅大的電阻率為100Ω/□,而設(shè)計(jì)規(guī)則又確定了多晶硅條寬度的相對小值,因此高值的電阻需要很大的尺寸,由于芯片面積的限制,實(shí)際上是很難實(shí)現(xiàn)的。當(dāng)然也可以用擴(kuò)散條來做薄層電阻,但是由于工藝的不穩(wěn)定性,通常很容易受溫度和電壓的影響,很難精確控制其闕值。寄生效果也十分明顯。無論多晶硅還是擴(kuò)散層,他們的電阻的變化范圍都很大,與注入材料中的雜質(zhì)濃度有關(guān)。不容易計(jì)算準(zhǔn)確值。由于上述原因,在集成電路中經(jīng)常使用有源電阻器。 MOS管的應(yīng)用范圍包括通信、計(jì)算機(jī)、消費(fèi)電子等領(lǐng)域。西藏車規(guī)級MOS管低價(jià)直銷
MOS管的結(jié)構(gòu)是怎樣的?它由哪些部分組成?西藏汽車級MOS管廠家直銷
MOS管的開通過程關(guān)于MOS管的開通過程,網(wǎng)絡(luò)上有許多文檔進(jìn)行分析,其來源應(yīng)為一篇帶感性負(fù)載的MOS管開通過程的分析,很多轉(zhuǎn)發(fā)該文章的網(wǎng)文卻常常忽略了這一點(diǎn),把這個(gè)過程當(dāng)做了所有場景下MOS的開通過程。因此,在分析之前,先說明本文分析的前提:阻性負(fù)載下,VDS固定時(shí),加驅(qū)動電壓VGS的情況下,MOS管的導(dǎo)通過程分析。
帶阻性負(fù)載的MOS管電路在GS、GD、DS之間都有寄生電容,在DS之間還有一個(gè)寄生二極管。在t0時(shí)刻,MOS管柵極加一驅(qū)動電壓VGS,其值為MOS管完全導(dǎo)通所需要的驅(qū)動電壓VGS(sat)后續(xù),若負(fù)載繼續(xù)加重,使漏極電流繼續(xù)上升,則MOS管的電流將會飽和,MOS管進(jìn)入飽和區(qū)。 西藏汽車級MOS管廠家直銷