對于納 / 微機械系統(tǒng)的研究與制造，德國 Polos 光刻機系列展現出強大實力。無掩模激光光刻技術賦予它高度的靈活性，科研人員能夠快速將創(chuàng)新設計轉化為實際器件。在制造微型齒輪、納米級懸臂梁等微機械結構時，Polos 光刻機可precise控制激光，確保每個部件的尺寸和形狀都符合設計要求。? 借助該光刻機，科研團隊成功研發(fā)出新型微機械傳感器，其靈敏度和響應速度遠超傳統(tǒng)產品。并且，由于系統(tǒng)占用空間小，即使是小型實驗室也能輕松引入。Polos 光刻機以其低成本、高效率的特性，成為納 / 微機械系統(tǒng)領域的制造先鋒，助力科研人員不斷探索微納世界的奧秘。柔性電子：曲面 OLED 驅動電路漏電降 70%，彎曲半徑達 1mm，適配可穿戴設備。遼寧德國BEAM光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

在微流體研究領域，德國 Polos 光刻機系列憑借獨特優(yōu)勢脫穎而出。其無掩模激光光刻技術，打破傳統(tǒng)光刻的局限，無需掩模就能實現高精度圖案制作。這使得科研人員在構建微通道網絡時，可根據實驗需求自由設計，快速完成從圖紙到實體的轉化。?以藥物傳輸研究為例，利用 Polos 光刻機，能制造出尺寸precise、結構復雜的微通道，模擬人體環(huán)境，讓藥物在微小空間內可控流動，much提升藥物傳輸效率研究的準確性。同時，在細胞培養(yǎng)實驗中，該光刻機制作的微流體芯片，為細胞提供穩(wěn)定且適宜的生長環(huán)境，助力細胞生物學研究取得新突破。小空間大作為的 Polos 光刻機，正推動微流體研究不斷向前。重慶德國桌面無掩模光刻機光源波長405微米環(huán)保低能耗設計：固態(tài)光源能耗較傳統(tǒng)設備降低30%，符合綠色實驗室標準。

在tumor轉移機制研究中，某tumor研究中心利用 Polos 光刻機構建了仿生tumor微環(huán)境芯片。通過無掩模激光光刻技術，在 PDMS 基底上制造出三維tumor血管網絡與間質纖維化結構，其中血管直徑可精確控制在 10-50μm。實驗顯示，該芯片模擬的tumor微環(huán)境中，tumor細胞遷移速度較傳統(tǒng)二維培養(yǎng)提升 2.3 倍，且化療藥物滲透效率降低 40%，與臨床數據高度吻合。該團隊通過軟件實時調整通道曲率和細胞外基質密度，成功復現了tumor細胞上皮 - 間質轉化（EMT）過程，相關成果發(fā)表于《Cancer Research》，并被用于新型抗轉移藥物的篩選平臺開發(fā)。

微納衛(wèi)星對部件重量與精度要求苛刻，傳統(tǒng)加工難以兼顧。Polos 光刻機在硅基材料上實現了 50nm 深度的微溝槽加工，為某航天團隊制造出輕量化星載慣性導航陀螺結構。通過自定義螺旋型振動梁圖案，陀螺的零偏穩(wěn)定性提升至 0.01°/h，較商用產品性能翻倍。該技術還被用于微推進器噴嘴陣列加工，使衛(wèi)星姿態(tài)調整精度達到亞毫牛級，助力我國低軌衛(wèi)星星座建設取得關鍵突破。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。6英寸晶圓兼容：Polos-BESM XL Mk2支持155×155 mm大尺寸加工，工業(yè)級重復精度0.1 μm。

一所高校的電子工程實驗室專注于新型傳感器的研究。在開發(fā)一款超靈敏壓力傳感器時，面臨著如何在微小尺寸上構建高精度電路圖案的難題。德國 Polos 光刻機的引入解決了這一困境。其可輕松輸入任意圖案進行曝光的特性，讓研究人員能夠根據傳感器的特殊需求，設計并制作出獨特的電路結構。通過 Polos 光刻機precise的光刻，成功制造出的壓力傳感器，靈敏度比現有市場產品提高了兩倍以上。該成果已獲得多項patent，并吸引了多家科技企業(yè)的關注，有望實現產業(yè)化應用，為可穿戴設備、智能機器人等領域帶來新的發(fā)展機遇。POLOS μ 光刻機：微型化機身，納米級曝光精度，微流體芯片制備周期縮短 40%。遼寧德國PSP-POLOS光刻機讓你隨意進行納米圖案化

德國 SPS Polos：深耕微納加工 35 年，專注半導體與生命科學領域，全球布局 6 大技術中心，服務 500 + 科研機構。遼寧德國BEAM光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸

某分析化學實驗室采用 Polos 光刻機開發(fā)了集成電化學傳感器的微流控芯片。其多材料同步曝光技術在 PDMS 通道底部直接制備出 10μm 寬的金電極，傳感器的檢測限達 1nM，較傳統(tǒng)電化學工作站提升 100 倍。通過軟件輸入不同圖案，可在 24 小時內完成從葡萄糖檢測到重金屬離子分析的模塊切換。該芯片被用于即時檢測（POCT）設備，使現場水質監(jiān)測時間從 2 小時縮短至 10 分鐘，相關設備已通過歐盟 CE 認證。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。遼寧德國BEAM光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸