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北京實驗室3D打印無掩膜光刻

來源: 發(fā)布時間:2024-06-27

我們的3D打印技術采用了先進的增材制造方法,能夠將數(shù)字模型轉化為實體產(chǎn)品。相比傳統(tǒng)的制造方法,這項技術具有許多優(yōu)勢。首先,它能夠實現(xiàn)高度定制化,根據(jù)客戶的需求精確打印出復雜的結構和形狀。其次,由于材料的精確控制和優(yōu)化設計,產(chǎn)品的質量和性能得到了明顯提升。此外,這項技術還能夠減少廢料和能源的浪費,對環(huán)境友好。我們的3D打印技術廣泛應用于各個行業(yè),包括航空航天、汽車制造、醫(yī)療器械等。在航空航天領域,我們的技術可以制造出輕量化的零部件,提高飛機的燃油效率和性能。在汽車制造領域,我們的技術可以生產(chǎn)出復雜的汽車零部件,提高汽車的安全性和舒適性。在醫(yī)療器械領域,我們的技術可以制造出個性化的假肢和植入物,提高患者的生活質量。我們公司一直致力于技術創(chuàng)新和產(chǎn)品質量的提升。通過引入這項**的3D打印技術,我們將進一步鞏固我們在行業(yè)中的**地位。我們相信,這項技術的推出將為我們的客戶帶來更多的商機和競爭優(yōu)勢。如果您對我們的3D打印技術感興趣或有任何疑問,請隨時與我們聯(lián)系。我們的團隊將竭誠為您提供專業(yè)的解答和支持。讓我們一起開創(chuàng)未來,共同推動行業(yè)的發(fā)展!在醫(yī)療領域,3D打印技術用于生產(chǎn)人工關節(jié)、假肢和外科手術模型,幫助醫(yī)生更好地了解患者的病情和手術情況。北京實驗室3D打印無掩膜光刻

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作為基于雙光子聚合技術(2PP)的微細加工領域市場帶領者,Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體。“我們?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進的2PP技術而感到自豪,憑借我們的技術支持,我們的客戶實現(xiàn)了一個又一個突破性創(chuàng)新想法。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的公司,與客戶保持良好密切的合作關系是我們保持優(yōu)于市場地位的關鍵”Nanoscribe聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官MartinHermatschweiler表示?;?PP微納加工技術方面的專業(yè)知識,Nanoscribe為前列科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術支持,并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等不同領域的發(fā)展。河北微納光刻3D打印微納加工系統(tǒng)Photonic Professional GT 3D打印機的后續(xù)產(chǎn)品,GT2可容納毫米大小的部件,打印高度可達8毫米。

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Nanoscribe成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系統(tǒng)基礎上進一步擴大產(chǎn)品組合實現(xiàn)多樣化,以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造**,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。

Nanoscribe公司推出針對微光學元件(如微透鏡、棱鏡或復雜自由曲面光學器件)具有特殊性能的新型打印材料,IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率,高色散和低阿貝數(shù)的特性,這些特性對于3D微納加工創(chuàng)新微光學元件設計尤為重要,尤其是在沒有旋轉對稱性和復合三維光學系統(tǒng)的情況下。由于在紅外區(qū)域吸收率不高,因此光敏樹脂成為了紅外微光學的優(yōu)先,同時也是光通訊、量子技術和光子封裝等需要低吸收損耗應用的相當好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學設計,并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學提升到一個新的高度。由于其光學特性,高折射率聚合物可促進許多運用突破性技術的各種應用,例如光電應用中,他們可以增加顯示設備、相機或投影儀鏡頭的視覺特性。此外,這些材料在3D微納加工技術應用下可制作更高階更復雜更小尺寸的3D微光學元件。高精度和高分辨率:微納3D打印技術可以實現(xiàn)微米級甚至納米級的打印精度,能夠制造出非常精細的結構和零件。

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Nanoscribe稱,QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(two-photongrayscalelithography,2GL)的工業(yè)系統(tǒng),目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結合,可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件(diffractiveopticalelement,DOE)可以通過在掃描平面內(nèi)調制激光功率來完成,從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示,折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力,可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列,以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀,如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè),并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目,打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向導,可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業(yè),并能夠接受任意光學設計的灰度圖像。Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技(上海)有限公司歡迎您一起探討雙光子微納3D打印技術信息。河北微納光刻3D打印微納加工系統(tǒng)

德國Nanoscribe的光學3D打印機可制造各種納米級鏡片。北京實驗室3D打印無掩膜光刻

這種集成復雜3D結構于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。布魯塞爾自由大學的光子學研究小組(B-PHOT)的科學家們正在通過使用Nanoscribe雙光子聚合技術(2PP)將光波導漏斗3D打印到光纖末端上來攻克將具有不同模場幾何形狀的兩個元件之間的光束進行高效和穩(wěn)健耦合這個難題。這些錐形光束漏斗可調整SMF的模式場,以匹配光子芯片上光波導模式場。Nanoscribe的2PP技術將可調整模場的錐形體作為階躍折射率光波導光束。北京實驗室3D打印無掩膜光刻