雙光子聚合（2PP）是一種可實現(xiàn)比較高精度和完全設計自由度的增材制造方法。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)QuantumXshape具有下列優(yōu)異性能：首先，在所有空間方向上低至100納米的特征尺寸控制，適用于納米和微米級打??；其次制作高達50毫米的目標結(jié)構，適用于中尺度打印。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質(zhì)量的打印效果是結(jié)合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結(jié)果，同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制，可操控振鏡加速和減速至比較好掃描速度，并以1MHz調(diào)制速率動態(tài)調(diào)整激光功率。QuantumXshape帶有獨特的自動界面查找功能，可以以低至30納米的精度檢測基板表面。這種在比較高掃描速度下的納米級精度體現(xiàn)，再加上自校準程序，可在特別短的時間內(nèi)實現(xiàn)可靠和準確的打印，為3D微納加工樹立了新榜樣。這些優(yōu)異的性能使QuantumXshape成為快速原型制作和應用于微納光學、微流體、材料表面工程、MEMS等其他領域中晶圓級規(guī)模生產(chǎn)的理想工具。德國Nanoscribe公司的Photonic Professional GT系列是目前世界公認的打印精度處于頭一位的3D打印機。廣東2PPNanoscribe三維光刻

全新的NanoscribeQuantumX系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細加工。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統(tǒng)制作工藝。全球頭一個雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)將具有出色性能的灰度光刻與Nanoscribe精確靈動的雙光子聚合技術結(jié)合起來。QuantumX提供了完全的設計自由度、高速的打印效率、以及增材制造復雜結(jié)構超光滑表面所需的高精度?？焖?、準確的增材制造工藝極大地縮短了設計迭代周期，實現(xiàn)了低成本的微納加工。憑借著獨有的產(chǎn)品優(yōu)勢Nanoscribe新發(fā)布的QuantumX在2019慕尼黑光博會展（LASERWorldofPhotonics2019）榮獲創(chuàng)新獎。浙江高分辨率NanoscribeQX更多有關3D雙光子無掩模光刻技術和產(chǎn)品咨詢，歡迎聯(lián)系Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

QuantumXshape技術特點概要：快速原型制作，高精度，高設計自由度，簡易明了的工程流程；工業(yè)驗證的晶圓級批量生產(chǎn)；200個標準結(jié)構的通宵產(chǎn)量；通用及專門使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領域應用有著重大意義。

**是全世界一個主要死亡原因，2020年有近1000萬人死于**[1]。而其中膠質(zhì)母細胞瘤是一種極具破壞性的腦**，其*細胞增殖非?？烨揖哂?*性。為了研究、***和破壞腦腫瘤細胞，研究人員正在研究使用質(zhì)子放射***，該***手段已被證明在不同**類型中比x射線放射***更有效和微創(chuàng)的技術。然而，質(zhì)子放射***的成本很高，這使得在動物和人類身上進行的試驗也變得非常昂貴，幾乎無法進行。質(zhì)子放射***的高成本也導致缺乏從細胞水平了解質(zhì)子對膠質(zhì)母細胞瘤影響的臨床研究。體外模型為評估*細胞對藥物和輻射的反應提供了一個平臺。然而，由于無法模擬體內(nèi)自然發(fā)生的3D環(huán)境，傳統(tǒng)2D單層細胞培養(yǎng)存在很大局限性。為了尋找更真實的模擬環(huán)境，代爾夫特理工大學（DelftUniversityofTechnology）的科學家們利用Nanoscribe的3D微納加工系統(tǒng)制作了3D工程細胞微環(huán)境，并且***次在質(zhì)子束放射實驗中研究了所培養(yǎng)的膠質(zhì)母細胞瘤細胞3D打印支架，以探究其對輻射的反應。令人印象深刻的是，該實驗結(jié)果顯示，與2D單層細胞相比，3D工程細胞培養(yǎng)中的DNA損傷得到了***降低。增材制造技術存在多方面的優(yōu)勢，如需了解請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向?qū)?，可在一開始就指導設計師和工程師完成打印作業(yè)，并能夠接受任意光學設計的灰度圖像。例如，可接受高達32位分辨率的BMP、PNG或TIFF文件，以便使用Nanoscribe的QuantumX進行直接制造更多有關微納3D打印產(chǎn)品和技術咨詢，歡迎聯(lián)系 納糯三維科技（上海）有限公司。重慶微納光刻Nanoscribe子公司

Nanoscribe專注于微納米3D打印設備的額研發(fā)和應用。廣東2PPNanoscribe三維光刻

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上基于雙光子灰度光刻技術（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術正在申請專利。2GL將灰度光刻技術與Nanoscribe的雙光子聚合技術相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。廣東2PPNanoscribe三維光刻