QuantumXshape是一款真正意義上的全能機型?；陔p光子聚合技術，該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機型，同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)?；a。QuantumXshape在3D微納加工領域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調制比和超精細處理網格，從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調，該系統(tǒng)在表面微結構的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制想要了解更多雙光子聚合納米3D打印的信息，請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維。亞微米雙光子聚合無掩光刻

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。江蘇高精度雙光子聚合技術雙光子聚合的特點和用途你了解嗎？如需了解請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以特別廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。

雙光子聚合3D打印技術的發(fā)展也面臨一些挑戰(zhàn)。首先，材料選擇和性能仍然是一個問題。目前可用的光敏樹脂材料種類有限，無法滿足所有需求。其次，打印速度和成本也是制約技術發(fā)展的因素。雖然雙光子聚合3D打印技術比傳統(tǒng)技術更快，但仍然需要進一步提高效率和降低成本。然而，隨著技術的不斷進步和創(chuàng)新，雙光子聚合3D打印技術有望在未來取得更大的突破?？蒲腥藛T正在不斷探索新的材料和打印方法，以提高打印質量和效率。同時，企業(yè)也加大了對該技術的支持和投入，推動其在各個領域的應用。雙光子聚合3D打印技術是一項具有巨大潛力的創(chuàng)新科技。它將為制造業(yè)帶來的變革，推動產品設計和制造的發(fā)展。我們有理由相信，在不久的將來，雙光子聚合3D打印技術將成為制造業(yè)的主流技術，為我們帶來更加美好的未來。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司帶您一起揭秘什么是雙光子聚合技術。

作為納米、微米和介觀尺度高分辨率3D微納加工的關鍵技術，雙光子聚合技術(2PP)能在高速打印的同時確保高精度制作。結合極高設計自由度的特點，2PP高精度增材制造推動著未來技術在例如生命科學、微流體、材料工程、微機械 和MEMS等科研和工業(yè)領域應用的發(fā)展。Nanoscribe作為2PP微納加工市場人物，將繼續(xù)突破3D微納加工的極限?；谕黄菩噪p光子對準技術(A2PL@)的Quantum X平臺系列，可以實現(xiàn)在光纖前列和光子芯片上直接打印自由曲面微光學元件，助力光子封裝領域實現(xiàn)在所有空間方向的納米級對準和定位。此外，該系統(tǒng)具備的雙光子灰度光刻技術(2GL @)是制造具備比較高光學質量的2.5D折射和衍射微光學器件的好的選擇，雙光子聚合激光直寫技術可以實現(xiàn)亞微米級別的加工精度，比傳統(tǒng)的納米加工技術更加精細。江蘇高精度雙光子聚合技術

三維加工能力：這種技術可以實現(xiàn)三維加工，能夠制造出具有復雜形狀的納米結構。亞微米雙光子聚合無掩光刻

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領域的應用。2GL與這些批量生產流水線工業(yè)程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創(chuàng)新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。亞微米雙光子聚合無掩光刻