Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性，以及非常廣的材料-基板選擇。因此，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。Nanoscribe的3D無(wú)掩模光刻機(jī)目前已經(jīng)分布在30多個(gè)國(guó)家的前沿研究中，超過(guò)1,000個(gè)開(kāi)創(chuàng)性科學(xué)研究項(xiàng)目是這項(xiàng)技術(shù)強(qiáng)大的設(shè)計(jì)和制造能力的特別好證明。雙光子灰度光刻技術(shù)將灰度光刻的高性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合。德國(guó)高精度灰度光刻設(shè)備

“Nanoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學(xué)院，現(xiàn)在在上海設(shè)有子公司，在美國(guó)設(shè)有辦事處。該公司在財(cái)務(wù)和技術(shù)上獲得了蔡司的大力支持，蔡司是德國(guó)歷史特別悠久，規(guī)模比較大的光學(xué)系統(tǒng)制造商之一。納米標(biāo)記系統(tǒng)基于雙光子吸收，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過(guò)程。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發(fā)劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強(qiáng)度特別高。Nanoscribe是一家德國(guó)雙光子增材制造系統(tǒng)制造商，2019年6月25日，南極熊從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機(jī)器QuantumX。該系統(tǒng)使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學(xué)元件，其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說(shuō)法，“Beers定律對(duì)當(dāng)今的無(wú)掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制，提供了前所未有的設(shè)計(jì)自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。江蘇2GL灰度光刻微納光刻灰度光刻技術(shù)可用于制造復(fù)雜掩膜版。

作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫(xiě)系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn)，同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時(shí)間。另外，QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無(wú)掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學(xué)元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(shù)(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級(jí)衍射光學(xué)元件，并以經(jīng)濟(jì)高效的方法將多達(dá)4,096層的設(shè)計(jì)加工成離散的或準(zhǔn)連續(xù)的拓?fù)洹?/p>

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”（CMM）。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術(shù)融入強(qiáng)大了3D打印工作流程，實(shí)現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術(shù)用于3D微納結(jié)構(gòu)的增材制造，可以通過(guò)激光直寫(xiě)而避免使用昂貴的掩模版和復(fù)雜的光刻步驟來(lái)創(chuàng)建3D和2.5D微結(jié)構(gòu)制作。另外，還可以實(shí)現(xiàn)精度上限的3D打印，突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點(diǎn)配以非常普遍的打印材料選擇使其成為理想的實(shí)驗(yàn)研究?jī)x器和多用戶設(shè)施。Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維帶您一起了解更多關(guān)于雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)的內(nèi)容。

我們往往需要通過(guò)灰度光刻的方式來(lái)實(shí)現(xiàn)微透鏡陣列結(jié)構(gòu)，灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計(jì)算機(jī)控制激光束或者電子束劑量從而達(dá)到在某些區(qū)域完全曝透，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結(jié)構(gòu)（如下圖4所示，八邊金字塔結(jié)構(gòu)）。微透鏡陣列也是類(lèi)似，可以通過(guò)劑量分布的控制來(lái)控制其輪廓形態(tài)。需要注意，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多，約為Ra=100nm，前兩者可以會(huì)的Ra=50nm的球面。微納3D打印這種方法與灰度光刻有點(diǎn)類(lèi)似，但是原理不同，我們常見(jiàn)的微納3D打印技術(shù)是雙光子聚合，利用該技術(shù)我們理論上可以獲得任意想要的結(jié)構(gòu)，不僅只是微透鏡陣列結(jié)構(gòu)（如下圖5所示），該方法的優(yōu)勢(shì)是可以完全按照設(shè)計(jì)獲得想要的結(jié)構(gòu)，后續(xù)可以通過(guò)LIGA工藝獲得金屬模具，并通過(guò)納米壓印技術(shù)進(jìn)行復(fù)制。想要了解更多雙光子灰度光刻技術(shù)，請(qǐng)致電Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。德國(guó)高精度灰度光刻設(shè)備

實(shí)現(xiàn)對(duì)光刻膠表面深度的精確控制，從而制備出更加復(fù)雜和精細(xì)的微納結(jié)構(gòu)。德國(guó)高精度灰度光刻設(shè)備

Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國(guó)卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持。經(jīng)過(guò)十幾年的不斷研究和成長(zhǎng)，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場(chǎng)的帶領(lǐng)者，推動(dòng)著諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。全新的QuantumX無(wú)掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個(gè)雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設(shè)計(jì)自由的同時(shí)，一步制造具有光學(xué)質(zhì)量表面以及高形狀精度要求的微光學(xué)元件，達(dá)到所見(jiàn)即所得。PhotonicProfessionalGT2是全球精度排名頭一位的3D微納打印機(jī)。德國(guó)高精度灰度光刻設(shè)備