Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)造工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學衍射以及折射元件。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討雙光子灰度光刻技術。上海Nanoscribe灰度光刻無掩膜激光直寫

QuantumXshape在3D微納加工領域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格，從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制。它不只是應用于生物醫(yī)學、微光學、MEMS、微流道、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具，同時也成為基于晶圓的小結(jié)構單元的批量生產(chǎn)的簡易工具。通過系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來很大程度提高實用性。山東雙光子灰度光刻三維微納米加工系統(tǒng)Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)。

對準雙光子光刻技術(A2PL®)是Nanoscribe基于雙光子聚合（2PP）的一種新型專利納米微納制造技術。該技術可以將打印的結(jié)構自動對準到光纖和光子芯片上，例如用于光子封裝中的光學互連。同時高精度檢測系統(tǒng)還可以識別基準點或拓撲基底特征，確保對3D打印進行高度精確的對準。Nanoscribe對準雙光可光刻技術搭配nanoPrintX，一種基于場景圖概念的軟件工具，可用于定義對準3D打印的打印項目。樹狀數(shù)據(jù)結(jié)構提供了所有與打印相關的對象和操作的分層組織，用于定義何時、何地、以及如何進行打印。在nanoPrintX中可以定義單個對準標記以及基板特征，例如芯片邊緣和光纖表面。使用QuantumXalign系統(tǒng)的共焦單元或光纖照明單元，可以識別這些特定的基板標記，并將其與在nanoPrintX中定義的數(shù)字模型進行匹配。對準雙光子光刻技術和nanoPrintX軟件是QuantumXalign系統(tǒng)的標配。

微透鏡陣列對表面質(zhì)量和形貌要求比較高，因此對制備工藝提出了很嚴格的要求。科研人員提出了許多方法來實現(xiàn)具有高表面質(zhì)量的微透鏡陣列的高效制備，比如針對柔性材料的熱壓印成型方法實現(xiàn)了大面積微透鏡陣列；利用灰度光刻工藝和轉(zhuǎn)印方法在柔性的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)襯底上實現(xiàn)了微透鏡陣列；利用光刻和熱回流方式實現(xiàn)了基于聚二甲基硅氧烷材料的微透鏡陣列等。上述方法可以實現(xiàn)具有較高表面質(zhì)量的微透鏡陣列，但通常需要使用復雜的工藝和步驟。此外，這些微透鏡基質(zhì)通常為軟質(zhì)材料，材料本身的機械抗性和耐酸堿的能力比較差。相對而言，透明硬脆材料例如石英、藍寶石等由于其極高的硬度和極強的化學穩(wěn)定性，在光學窗口、光學元件等方面的應用更加廣。因此，如何制備具有高表面質(zhì)量的透明硬脆材料微透鏡陣列等微光學元件成為研究人員研究的焦點。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您了解成熟的灰度光刻技術。

這款灰度光刻設備具備出色的精度和穩(wěn)定性。通過先進的光刻技術，它能夠在微米級別上進行精確的圖案制作，確保產(chǎn)品的質(zhì)量和精度達到比較高水平。同時，設備的穩(wěn)定性也得到了極大的提升，減少了生產(chǎn)過程中的誤差和損耗，提高了生產(chǎn)效率。這款設備具備高效的生產(chǎn)能力。它采用了快速曝光和快速開發(fā)的技術，**縮短了生產(chǎn)周期。相比傳統(tǒng)的光刻設備，它的生產(chǎn)速度提高了30%，提升了我們的生產(chǎn)效率。同時，設備還具備多通道同時加工的能力，可以同時處理多個產(chǎn)品，進一步提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)能。雙光子灰度光刻（2GL ?）系統(tǒng)Quantum X實現(xiàn)了2D和2.5D微納結(jié)構的增材制造。江蘇高精度灰度光刻激光直寫

由于灰度光刻的高精度特性，它可以有效地解決傳統(tǒng)光刻技術中存在的誤差和缺陷問題。上海Nanoscribe灰度光刻無掩膜激光直寫

基于雙光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設計自由度的增材制造方法和Nanoscribe專有的雙光子灰度光刻(2GL)技術，Nanoscribe認為直接激光寫入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何，在面積達25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過其新機器為科學和工業(yè)用途的晶圓級高精度微制造設定新標準。“雖然QuantumX已經(jīng)通過雙光子灰度光刻技術推動了平面微光學器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為高效可靠的工具用于研究實驗室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn)。”。上海Nanoscribe灰度光刻無掩膜激光直寫