正性光刻膠

• 半導體分立器件制造：對于二極管、三極管等半導體分立器件，正性光刻膠可實現精細的圖形化加工，滿足不同功能需求。比如在制作高精度的小尺寸分立器件時，正性光刻膠憑借其高分辨率和良好對比度，能精確刻畫器件的結構，提高器件性能。
• 微機電系統（MEMS）制造：MEMS 器件如加速度計、陀螺儀等，結構復雜且尺寸微小。正性光刻膠用于 MEMS 制造過程中的光刻步驟，可在硅片等材料上制作出高精度的微結構，確保 MEMS 器件的功能實現。

嚴苛光刻膠標準品質，吉田半導體綠色制造創(chuàng)新趨勢。煙臺紫外光刻膠生產廠家

厚板光刻膠

• 電路板制造：在制作對線路精度和抗蝕刻性能要求高的電路板時，厚板光刻膠可確保線路的精細度和穩(wěn)定性，比如汽車電子、工業(yè)控制等領域的電路板，能承受復雜環(huán)境和大電流、高電壓等工況。
• 功率器件制造：像絕緣柵雙極晶體管（IGBT）這類功率器件，需要承受高電壓和大電流，厚板光刻膠可用于其芯片制造過程中的光刻環(huán)節(jié)，保障芯片內部電路的精細布局，提高器件的性能和可靠性。

負性光刻膠

• 半導體制造：在芯片制造過程中，用于制作一些對精度要求高、圖形面積較大的結構，如芯片的金屬互連層、接觸孔等。通過負性光刻膠的曝光和顯影工藝，能實現精確的圖形轉移，確保芯片各部分之間的電氣連接正常。
• 平板顯示制造：在液晶顯示器（LCD）和有機發(fā)光二極管顯示器（OLED）的制造中，用于制作電極、像素等大面積圖案。以 LCD 為例，負性光刻膠可幫助形成液晶層與玻璃基板之間的電極圖案，控制液晶分子的排列，從而實現圖像顯示。

青島水油光刻膠吉田半導體：以技術革新驅動光刻膠產業(yè)升級。

吉田半導體助力區(qū)域經濟，構建半導體材料生態(tài)圈，發(fā)揮企業(yè)作用，吉田半導體聯合上下游資源，推動東莞松山湖半導體產業(yè)協同創(chuàng)新。
作為松山湖產業(yè)集群重要成員，吉田半導體聯合光刻機制造商、光電子企業(yè)共建材料生態(tài)圈。公司通過技術輸出與資源共享，幫助本地企業(yè)提升工藝水平，促進產業(yè)鏈協同創(chuàng)新。例如，與華中科技大學合作研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠，極限分辨率 120nm，工藝寬容度優(yōu)于日本信越同類產品，已實現量產并出口東南亞，為區(qū)域經濟發(fā)展注入新動能。光刻膠是有什么東西？

光刻膠系列：

厚板光刻膠 JT - 3001，具備優(yōu)異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能，符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年；

水油光刻膠 SR - 3308，容量 5L；SU - 3 負性光刻膠，分辨率優(yōu)異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應，重量 100g；

液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000，有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格，分辨率高，準確性和穩(wěn)定性好；

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠，耐強酸強堿，耐高溫達 250°C，長期可靠性高，粘接強度高，重量 100g；

LCD 正性光刻膠 YK - 200，具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力，重量 100g；

半導體正性光刻膠 YK - 300，具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g；

耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100，重量 1L。 光刻膠新興及擴展應用。甘肅紫外光刻膠國產廠商

正性光刻膠的工藝和應用場景。煙臺紫外光刻膠生產廠家

聚焦先進封裝需求，吉田半導體提供從光刻膠到配套材料的一站式服務，助力高性能芯片制造。
在 5G 芯片與 AI 處理器封裝領域，吉田半導體研發(fā)的 SU-3 負性光刻膠支持 3μm 厚膜加工，抗深蝕刻速率 > 500nm/min，為高密度金屬互連提供可靠支撐。其 BGA 助焊膏采用低溫固化技術（180℃），焊接空洞率 < 5%；針筒錫膏適用于 01005 超微型元件，印刷精度達 ±5μm。通過標準化實驗室與快速響應團隊，公司為客戶提供工藝優(yōu)化建議，幫助降低生產成本，增強市場競爭力。煙臺紫外光刻膠生產廠家