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廈門網(wǎng)版光刻膠

來源： 發(fā)布時間：2025-07-09

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于 2023 年，總部位于東莞松山湖經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)，注冊資本 2000 萬元。作為高新企業(yè)和廣東省專精特新企業(yè)，公司專注于半導(dǎo)體材料的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售，產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠、LCD 光刻膠、納米壓印光刻膠、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶材等領(lǐng)域。其光刻膠產(chǎn)品以高分辨率、耐蝕刻性和環(huán)保特性著稱，廣泛應(yīng)用于芯片制造、顯示面板及精密電子元件生產(chǎn)。

公司依托 23 年行業(yè)經(jīng)驗積累，構(gòu)建了完整的技術(shù)研發(fā)體系，擁有全自動化生產(chǎn)設(shè)備及多項技術(shù)。原材料均選用美國、德國、日本進口的材料，并通過 ISO9001:2008 質(zhì)量管理體系認(rèn)證，生產(chǎn)流程嚴(yán)格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理標(biāo)準(zhǔn)，確保產(chǎn)品穩(wěn)定性與一致性。目前，吉田半導(dǎo)體已與多家世界 500 強企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長期合作，產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球市場，致力于成為半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè)。
多層光刻膠技術(shù)通過堆疊不同性質(zhì)的膠層，可提升圖形結(jié)構(gòu)的深寬比。廈門網(wǎng)版光刻膠

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 半導(dǎo)體集成電路

? 應(yīng)用場景：

? 晶圓制造：正性膠為主（如ArF/EUV膠），實現(xiàn)20nm以下線寬，用于晶體管柵極、接觸孔等精細(xì)結(jié)構(gòu)；

? 封裝工藝：負(fù)性膠用于凸點（Bump）制造，厚膠（5-50μm）耐電鍍?nèi)芤焊g。

? 關(guān)鍵要求：高分辨率、低缺陷率、耐極端工藝（如150℃以上高溫、等離子體轟擊）。

 印刷電路板（PCB）

? 應(yīng)用場景：

? 線路成像：負(fù)性膠（如環(huán)化橡膠膠）用于雙面板/多層板外層線路，線寬≥50μm，耐堿性蝕刻液（如氯化銅）；

? 阻焊層：厚負(fù)性膠（50-100μm）覆蓋非焊盤區(qū)域，耐260℃焊接溫度和助焊劑腐蝕；

? 撓性PCB（FPC）：正性膠用于精細(xì)線路（線寬≤20μm），需耐彎曲應(yīng)力。

? 優(yōu)勢：工藝簡單、成本低，適合大面積基板（如1.2m×1.0m的PCB基板）。

 平板顯示

? 應(yīng)用場景：

? 彩色濾光片：正性膠制作黑矩陣（BM）和RGB色阻間隔層，耐UV固化和濕法蝕刻（如HF溶液）；

? OLED像素定義：負(fù)性膠形成像素開口（孔徑5-50μm），耐有機溶劑（如OLED蒸鍍前的清洗液）；

? 觸控面板：正性膠制作透明電極（如ITO線路），線寬≤10μm，需透光率＞90%。

? 關(guān)鍵參數(shù)：高透光性、低收縮率（避免圖案變形）。

福建LCD光刻膠廠家在集成電路制造中，光刻膠用于定義晶體管、互連線和接觸孔的圖形。

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吉田半導(dǎo)體 SU-3 負(fù)性光刻膠：國產(chǎn)技術(shù)賦能 5G 芯片封裝

自主研發(fā) SU-3 負(fù)性光刻膠支持 3 微米厚膜加工，成為 5G 芯片高密度封裝材料。
針對 5G 芯片封裝需求，吉田半導(dǎo)體自主研發(fā) SU-3 負(fù)性光刻膠，分辨率達(dá) 1.5μm，抗深蝕刻速率 > 500nm/min。其超高感光度與耐化學(xué)性確保復(fù)雜圖形的完整性，已應(yīng)用于高通 5G 基帶芯片量產(chǎn)。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與工藝，不采用國外材料，成本較進口產(chǎn)品降低 40%，幫助客戶提升封裝良率至 98.5%，為國產(chǎn) 5G 芯片制造提供關(guān)鍵材料支撐。

國際廠商策略調(diào)整
應(yīng)用材料公司獲曝光后處理，可將光刻膠工藝效率提升40%。杜邦因反壟斷調(diào)查在中國市場面臨壓力，但其新一代乾膜式感光型介電質(zhì)材料（CYCLOTENE DF6000 PID）仍在推進，試圖通過差異化技術(shù)維持優(yōu)勢。日本企業(yè)則通過技術(shù)授權(quán)（如東京應(yīng)化填補信越產(chǎn)能缺口）維持市場地位。

 國內(nèi)產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同升級
TSMC通過租賃曝光設(shè)備幫助供應(yīng)商降低成本，推動光刻膠供應(yīng)鏈本地化，其中國臺灣EUV光刻膠工廠年產(chǎn)能達(dá)1000瓶，產(chǎn)值超10億新臺幣。國內(nèi)企業(yè)借鑒此模式，如恒坤新材通過科創(chuàng)板IPO募資15億元，建設(shè)集成電路前驅(qū)體項目，形成“光刻膠-前驅(qū)體-設(shè)備”協(xié)同生態(tài)。

 技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)與壁壘
美國實體清單限制日本廠商對華供應(yīng)光刻膠，中國企業(yè)需突破。例如，日本在EUV光刻膠領(lǐng)域持有全球65%的，而中國只占12%。國內(nèi)企業(yè)正通過產(chǎn)學(xué)研合作（如華中科技大學(xué)與長江存儲聯(lián)合攻關(guān)）構(gòu)建自主知識產(chǎn)權(quán)體系。

光刻膠生產(chǎn)需嚴(yán)格控制原材料純度，如溶劑、樹脂和光敏劑的配比精度。

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技術(shù)優(yōu)勢：23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破

 全流程自主化能力
吉田在光刻膠研發(fā)中實現(xiàn)了從樹脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系，實現(xiàn)了3μm的分辨率，適用于MEMS傳感器、光學(xué)器件等領(lǐng)域。
技術(shù)壁壘：公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗，掌握光刻膠主要原材料（如樹脂、光酸）的合成技術(shù)，部分原材料純度達(dá)PPT級。

 細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)先進

? 納米壓印光刻膠：在納米級圖案化領(lǐng)域（如量子點顯示、生物芯片）實現(xiàn)技術(shù)突破，分辨率達(dá)3μm，填補國內(nèi)空缺。

? LCD光刻膠：針對顯示面板行業(yè)需求，開發(fā)出高感光度、高對比度的光刻膠，適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術(shù)。

 研發(fā)投入與合作
公司2018年獲高新技術(shù)性企業(yè)認(rèn)證，與新材料領(lǐng)域同伴們合作開發(fā)半導(dǎo)體光刻膠，計劃2025年啟動半導(dǎo)體用KrF光刻膠研發(fā)。
光刻膠與自組裝材料（DSA）結(jié)合，有望突破傳統(tǒng)光刻的分辨率極限。廣西正性光刻膠感光膠

顯影環(huán)節(jié)使用堿性溶液（如TMAH）溶解曝光后的光刻膠，形成目標(biāo)圖形。廈門網(wǎng)版光刻膠

  1. 產(chǎn)品特點：耐溶劑型優(yōu)良，抗潮耐水性好，耐印率高；固含量高，流平性好，涂布性能優(yōu)良；經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理，網(wǎng)版平滑、無白點、無沙眼、亮度高；剝膜性好，網(wǎng)版可再生使用；解像性、高架橋性好，易做精細(xì)網(wǎng)點和線條；感光度高，曝光時間短，曝光寬容度大，節(jié)省網(wǎng)版作業(yè)時間，提高工作效率 。
  2. 應(yīng)用范圍：適用于塑料、皮革、標(biāo)牌、印刷電路板（PCB）、廣告宣傳、玻璃、陶瓷、紡織品等產(chǎn)品的印刷。例如在塑料表面形成牢固圖案，滿足皮革制品精細(xì)印刷需求，制作各類標(biāo)牌保證圖案清晰，用于 PCB 制造滿足高精度要求等。
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標(biāo)簽： 錫片 光刻膠 錫膏