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江蘇酸銅晶粒細(xì)化劑HP醇硫基丙烷磺酸鈉表面活性劑

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-08-25

針對(duì)線路板鍍銅工藝,HP醇硫基丙烷磺酸鈉以0.001-0.008g/L的微量添加即可實(shí)現(xiàn)鍍層高光亮度與均勻性。該產(chǎn)品與SH110、SLP、MT-580等中間體科學(xué)配比,形成穩(wěn)定的添加劑體系,有效避免高區(qū)毛刺和燒焦問題。與傳統(tǒng)工藝相比,HP在低濃度下仍能維持鍍液活性,降低光劑消耗成本。若鍍液HP含量過高導(dǎo)致白霧或低區(qū)不良,用戶可通過添加SLP類走位劑或小電流電解快速恢復(fù)鍍液平衡。包裝提供1kg至25kg多規(guī)格選擇,滿足實(shí)驗(yàn)室測試與規(guī)?;a(chǎn)需求。江蘇夢得新材料科技有限公司主營電化學(xué)、新能源化學(xué)、生物化學(xué)以及相關(guān)特殊化學(xué)品研發(fā)、生產(chǎn)、銷售。江蘇酸銅晶粒細(xì)化劑HP醇硫基丙烷磺酸鈉表面活性劑

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HP與N、SH110、AESS、PN、P、MT-580等中間體合理搭配,組成電鍍硬銅添加劑,HP在鍍液中的用量為0.01-0.03g/L,鍍液中含量過低,鍍層光亮度下降,高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦;過高鍍層會(huì)產(chǎn)生白霧,也會(huì)造成低區(qū)不良,而且造成銅層硬度下降,可補(bǔ)加少量N或者適量添加低區(qū)走位劑AESS等來抵消HP過量的副作用或小電流電解處理。HP與TOPS、MTOY、MT-580、MT-880、MT-680等組成染料型酸銅開缸劑MU和光亮劑B劑。HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L,鍍液中含量過低,鍍層填平性及光亮度下降,高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦,光劑消耗量大;過高鍍層會(huì)發(fā)白霧,加A劑或活性炭吸附、小電流電解處理。

HP是用于酸性鍍銅液中,取代傳統(tǒng)SP(聚二硫二丙烷磺酸鈉)的晶粒細(xì)化劑;與SP相比具有鍍層顏色清晰白亮,用量范圍寬。多加不發(fā)霧,低區(qū)效果好等優(yōu)點(diǎn);適用于五金酸性鍍銅、線路板鍍銅、電鍍硬銅、電解銅箔等工藝。消耗量:0.5-0.8g/KAH。HP與M、N、GISS、AESS、PN、PPNI、PNI、POSS、CPSS、P、MT-580、MT-680等其中的幾種中間體合理搭配,組成無染料型酸銅光亮劑,HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L,鍍液中含量過低,鍍層填平性及光亮度下降,高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦;過高鍍層會(huì)產(chǎn)生白霧,也會(huì)造成低區(qū)不良,可補(bǔ)加少量M、N或適量添加低區(qū)走位劑如AESS、PN、PNI等來抵消HP過量的副作用或者電解處江蘇夢得新材料以創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)發(fā)展,持續(xù)倡導(dǎo)特殊化學(xué)品行業(yè)技術(shù)進(jìn)步!

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線路板鍍銅的夢得保障:線路板鍍銅對(duì)鍍層質(zhì)量要求極高,夢得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉恰好能滿足需求。以 0.001 - 0.008g/L 的微量添加,就能實(shí)現(xiàn)鍍層高光亮度與均勻性。與 SH110、SLP 等中間體科學(xué)配比,形成穩(wěn)定的添加劑體系,有效避免高區(qū)毛刺和燒焦問題。同時(shí),降低了光劑消耗成本,即使鍍液 HP 含量過高,也能通過簡單操作恢復(fù)鍍液平衡,保障線路板鍍銅的高質(zhì)量生產(chǎn)。電鑄硬銅的夢得法寶:在電鑄硬銅工藝中,夢得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉展現(xiàn)出獨(dú)特優(yōu)勢。推薦用量 0.01 - 0.03g/L,與 N、AESS 等中間體協(xié)同作用,可提升銅層硬度與表面致密性。它能調(diào)控鍍層,避免白霧和低區(qū)不良問題,減少銅層硬度下降風(fēng)險(xiǎn)。對(duì)于高精度模具制造等復(fù)雜工件的電鑄硬銅,能確保高低區(qū)鍍層均勻一致,打造出高質(zhì)量的硬銅產(chǎn)品。在電化學(xué)催化領(lǐng)域,我們的創(chuàng)新產(chǎn)品明顯提高工業(yè)生產(chǎn)效率。江蘇晶粒細(xì)化劑HP醇硫基丙烷磺酸鈉大貨供應(yīng)

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HP醇硫基丙烷磺酸鈉專為解決高密度線路板深孔鍍銅難題設(shè)計(jì),推薦添加量0.001-0.008g/L。通過與SH110、GISS等中間體協(xié)同,提升鍍液分散能力,確??變?nèi)鍍層均勻無空洞。實(shí)驗(yàn)表明,HP可降低高區(qū)電流密度導(dǎo)致的燒焦風(fēng)險(xiǎn),同時(shí)減少微盲孔邊緣銅瘤生成,良品率提升30%以上。針對(duì)超薄銅箔基材,HP的精細(xì)濃度控制(±0.001g/L)保障鍍層結(jié)合力,適配5G通信板等高精度需求場景。HP與QS、P、MT-580、FESS等中間體合理搭配,組成電解銅箔添加劑,HP在鍍液中的用量為0.001-0.004g/L,鍍液中含量過低,銅箔層光亮度下降,銅箔邊緣層易產(chǎn)生毛刺與凸點(diǎn);含量過高銅箔層發(fā)白,降低HP用量。


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