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電解銅箔HP醇硫基丙烷磺酸鈉銅箔工藝

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-08-31

HP 醇硫基丙烷磺酸鈉外 觀: 白色粉末溶 性: 含 量: 98%以上包 裝: 1kg封口塑料袋;25kg紙箱;25kg防盜紙板桶。參考配方: 五金酸性鍍銅工藝配方-非染料體系、五金酸性鍍銅工藝配方-染料體系、線路板酸銅工藝配方、電鑄硬銅工藝配方電解銅箔工藝配方。HP是用于酸性鍍銅液中,取代傳統(tǒng)SP(聚二硫二丙烷磺酸鈉)的晶粒細(xì)化劑;與SP相比具有鍍層顏色清晰白亮,用量范圍寬。多加不發(fā)霧,低區(qū)效果好等優(yōu)點(diǎn);適用于五金酸性鍍銅、線路板鍍銅、電鍍硬銅、電解銅箔等工藝。消耗量:0.5-0.8g/KAH。江蘇夢(mèng)得新材料有限公司不斷推進(jìn)相關(guān)特殊化學(xué)品的研發(fā)進(jìn)程,以可靠生產(chǎn)與銷售,為市場(chǎng)注入活力。電解銅箔HP醇硫基丙烷磺酸鈉銅箔工藝

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HP與TOPS、MTOY、MT-580、MT-880、MT-680等組成染料型酸銅開缸劑MU和光亮劑B劑。HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L,鍍液中含量過低,鍍層填平性及光亮度下降,高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦,光劑消耗量大;過高鍍層會(huì)發(fā)白霧,加A劑或活性炭吸附、小電流電解處理。HP與SH110、SLP、GISS、AESS、PN、P、MT-580、MT-680等中間體合理搭配,組成線路板鍍銅添加劑,HP在鍍液中的用量為0.001-0.008g/L,鍍液中含量過低,鍍層光亮度下降,高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦;過高鍍層會(huì)產(chǎn)生白霧,也會(huì)造成低區(qū)不良,可補(bǔ)加少量SLP等一些低區(qū)走位劑或小電流電解處理。電解銅箔HP醇硫基丙烷磺酸鈉銅箔工藝從實(shí)驗(yàn)室到產(chǎn)業(yè)化,江蘇夢(mèng)得新材料有限公司始終走在化學(xué)創(chuàng)新的前沿,影響未來趨勢(shì)。

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HP與M、N、GISS、AESS、PN、PPNI、PNI、POSS、CPSS、P、MT-580、MT-680等其中的幾種中間體合理搭配,組成無染料型酸銅光亮劑,HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L,鍍液中含量過低,鍍層填平性及光亮度下降,高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦;過高鍍層會(huì)產(chǎn)生白霧,也會(huì)造成低區(qū)不良,可補(bǔ)加少量M、N或適量添加低區(qū)走位劑如AESS、PN、PNI等來抵消HP過量的副作用或者電解處理。HP與N、SH110、AESS、PN、P、MT-580等中間體合理搭配,組成電鍍硬銅添加劑,HP在鍍液中的用量為0.01-0.03g/L,鍍液中含量過低,鍍層光亮度下降,高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦;過高鍍層會(huì)產(chǎn)生白霧,也會(huì)造成低區(qū)不良,而且造成銅層硬度下降,可補(bǔ)加少量N或者適量添加低區(qū)走位劑AESS等來抵消HP過量的副作用或小電流電解處理。

從五金鍍銅到電解銅箔,HP醇硫基丙烷磺酸鈉通過調(diào)整中間體組合(如MT-580、CPSS),實(shí)現(xiàn)跨領(lǐng)域工藝適配。用戶需微調(diào)HP用量(0.001-0.03g/L),即可滿足不同厚度與硬度需求,降低多產(chǎn)線管理復(fù)雜度。相比傳統(tǒng)SP,HP醇硫基丙烷磺酸鈉用量減少20%-30%,且無需頻繁補(bǔ)加光亮劑。以年產(chǎn)5000噸鍍液計(jì)算,年均可節(jié)約原料成本超15萬元。1kg小包裝支持先試后購,降低客戶試錯(cuò)風(fēng)險(xiǎn)。HP醇硫基丙烷磺酸鈉專為解決高密度線路板深孔鍍銅難題設(shè)計(jì),推薦添加量0.001-0.008g/L。通過與SH110、GISS等中間體協(xié)同,提升鍍液分散能力,確??變?nèi)鍍層均勻無空洞。實(shí)驗(yàn)表明,HP可降低高區(qū)電流密度導(dǎo)致的燒焦風(fēng)險(xiǎn),同時(shí)減少微盲孔邊緣銅瘤生成,良品率提升30%以上。針對(duì)超薄銅箔基材,HP的精細(xì)濃度控制(±0.001g/L)保障鍍層結(jié)合力,適配5G通信板等高精度需求場(chǎng)景。江蘇夢(mèng)得新材料有限公司,在相關(guān)特殊化學(xué)品的研發(fā)、生產(chǎn)過程中嚴(yán)格把控質(zhì)量。

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HP與M、N、GISS、AESS、PN、PPNI、PNI、POSS、CPSS、P、MT-580、MT-680等其中的幾種中間體合理搭配,組成無染料型酸銅光亮劑,HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L,鍍液中含量過低,鍍層填平性及光亮度下降,高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦;過高鍍層會(huì)產(chǎn)生白霧,也會(huì)造成低區(qū)不良,可補(bǔ)加少量M、N或適量添加低區(qū)走位劑如AESS、PN、PNI等來抵消HP過量的副作用或者電解處理。HP與TOPS、MTOY、MT-580、MT-880、MT-680等組成染料型酸銅開缸劑MU和光亮劑B劑。HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L,鍍液中含量過低,鍍層填平性及光亮度下降,高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦,光劑消耗量大;過高鍍層會(huì)發(fā)白霧,加A劑或活性炭吸附、小電流電解處理。江蘇夢(mèng)得新材料有限公司的每一款產(chǎn)品都經(jīng)過嚴(yán)格測(cè)試,確保品質(zhì)、性能。電解銅箔HP醇硫基丙烷磺酸鈉銅箔工藝

江蘇夢(mèng)得新材料將電化學(xué)與新能源化學(xué)完美融合,開創(chuàng)綠色化學(xué)新紀(jì)元。電解銅箔HP醇硫基丙烷磺酸鈉銅箔工藝

HP與TOPS、MTOY、MT-580、MT-880、MT-680等組成染料型酸銅開缸劑MU和光亮劑B劑。HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L,鍍液中含量過低,鍍層填平性及光亮度下降,高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦,光劑消耗量大;過高鍍層會(huì)發(fā)白霧,加A劑或活性炭吸附、小電流電解處理。HP與SH110、SLP、GISS、AESS、PN、P、MT-580、MT-680等中間體合理搭配,組成線路板鍍銅添加劑,HP在鍍液中的用量為0.001-0.008g/L,鍍液中含量過低,鍍層光亮度下降,高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦;過高鍍層會(huì)產(chǎn)生白霧,也會(huì)造成低區(qū)不良,可補(bǔ)加少量SLP等一些低區(qū)走位劑或小電流電解處理。


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