杭州博測材料科技有限公司2025-08-08

GD-OES基于輝光放電等離子體濺射原理：在低壓氬氣環(huán)境中，陰極（樣品）與陽極間施加高壓，產生等離子體。氬離子轟擊樣品表面，使原子濺射并激發(fā)，發(fā)射元素特征光譜（如Fe 371.99 nm）。光譜強度與元素濃度成正比，通過分光器（如帕邢-龍格裝置）檢測。GD-MS則通過質譜儀分析濺射原子的離子化產物，檢測質荷比（m/z），適用于痕量元素（如稀土）分析，靈敏度可達ppt級。兩者均實現(xiàn)固體樣品直接分析，避免溶液消解的污染風險。

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