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水浸超聲掃描如何確定探頭規(guī)格？

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杭州芯紀(jì)源半導(dǎo)體設(shè)備有限公司2025-06-12

確定水浸超聲掃描探頭規(guī)格需結(jié)合工件材質(zhì)與厚度，如檢測(cè)較厚半導(dǎo)體晶圓需選用低頻、長(zhǎng)焦距探頭（如2MHz、25mm晶片直徑），以增強(qiáng)穿透力并聚焦至目標(biāo)深度，同時(shí)需匹配材料聲速（如5900m/s）優(yōu)化檢測(cè)效果。

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杭州芯紀(jì)源半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
杭州芯紀(jì)源半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
簡(jiǎn)介：杭州芯紀(jì)源成立于 2024 年，融合聲、光及 AI 算法，專(zhuān)注半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備研發(fā)制造，提供超聲檢測(cè)。
簡(jiǎn)介： 杭州芯紀(jì)源成立于 2024 年，融合聲、光及 AI 算法，專(zhuān)注半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備研發(fā)制造，提供超聲檢測(cè)。
水浸式超聲掃描儀2
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    杭州芯紀(jì)源半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 2025-06-15

    探頭規(guī)格需根據(jù)缺陷類(lèi)型與檢測(cè)精度選擇，例如檢測(cè)微小裂紋需高頻聚焦探頭（如25MHz、Φ13晶片），利用其高指向性和窄波束提升分辨率；而檢測(cè)大面積均勻材料則可選寬帶探頭，兼顧靈敏度與信噪比。

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    杭州芯紀(jì)源半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 2025-06-15

    水浸超聲探頭規(guī)格需綜合工件幾何尺寸與檢測(cè)效率，如掃描大面積平面工件時(shí)，宜選用大晶片尺寸（如Φ20mm）和快速掃描速度（如120mm/s）的探頭，同時(shí)調(diào)整水聲距（如380-400mm）確保聲場(chǎng)均勻覆蓋檢測(cè)區(qū)域。

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杭州芯紀(jì)源半導(dǎo)體設(shè)備有限公司

聯(lián)系人： 吳先生

手   機(jī)： 4008034068

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地   址：
浙江省杭州市市轄區(qū)良渚街道網(wǎng)周路99號(hào)4幢21層2103室
水浸式超聲掃描儀
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