掛鍍工藝:晶圓固定在掛具上,浸入電鍍液,通過精細控制電流、電壓及溶液成分,在表面沉積均勻金屬層。
電鍍槽:耐腐蝕材質,配備溫控、循環(huán)過濾系統,維持鍍液均勻性
掛具與陽極:鈦或鉑金陽極,掛具設計適配晶圓尺寸,確保電場分布均勻
自動化傳輸:機械臂自動上下料,減少人工污染風險
控制系統:PLC/計算機實時調控電流密度、電鍍時間、pH值等參數
高均勻性:通過脈沖電鍍或水平電鍍技術(如ECP),減少邊緣效應,實現亞微米級鍍層均勻性
低缺陷率:鍍液雜質控制(<0.1ppm)與膜厚在線監(jiān)測,降低孔洞、結節(jié)等缺陷
高產能:支持多晶圓并行處理
銅互連:在邏輯芯片中沉積多層銅導線,替代傳統鋁工藝以降低電阻
TSV填充:為3D封裝提供垂直導電通道,實現芯片堆疊
凸塊電鍍:在晶圓表面形成錫、銅柱凸塊,用于Flip-Chip鍵合
RDL(重布線層):沉積銅層實現芯片I/O端口的重新布局
半導體掛鍍設備通過精密電化學控制與自動化技術,解決了納米級金屬沉積的均勻性與可靠性難題,是先進芯片制造與封裝的裝備。其性能直接關聯芯片的導電性、散熱及良率 脈沖電化學拋光設備結合電鍍與拋光功能,通過瞬間高電流溶解凸起部分,實現鏡面級鍍層表面。廣東深圳環(huán)保型電鍍設備
1.磷化(Phosphating)是一種化學表面處理技術,利用磷酸鹽溶液與金屬(如鋼鐵、鋅、鋁等)發(fā)生反應,生成一層致密的磷酸鹽晶體膜(如磷酸鐵、磷酸鋅)
2.全自動磷化線通過自動化設備實現磷化工藝全流程無人化操作,覆蓋預處理、磷化、后處理等環(huán)節(jié)。
1.預處理單元
脫脂槽:去除金屬表面油污
酸洗槽:氧化皮和銹跡
水洗槽:沖洗殘留化學藥劑
2.磷化處理單元
磷化槽:主反應區(qū),金屬浸泡或噴淋磷化液,生成轉化膜
溫度與濃度控制:通過傳感器和自動加藥系統維持工藝參數穩(wěn)定
3.后處理單元
封閉/鈍化槽:增強磷化膜耐腐蝕性
烘干系統:熱風或紅外烘干,避免水痕殘留
4.自動化系統
輸送裝置:傳送帶、機械臂或懸掛鏈,精細控制工件移動
PLC控制:集成溫控、液位監(jiān)測、流程時序管理
數據監(jiān)控:實時記錄工藝參數,支持遠程操作與故障診斷
上料 → 脫脂 → 水洗 → 酸洗 → 水洗 → 表調(調整表面活性)→ 磷化 → 水洗 → 鈍化 → 烘干 → 下料。
廣東深圳環(huán)保型電鍍設備連續(xù)鍍生產線的導電輥鍍覆耐磨碳鎢涂層,降低鋼帶傳輸摩擦,避免劃傷與鍍層缺陷。
對比項 傳統滾鍍 半導體滾鍍 對象 小型金屬零件(螺絲、紐扣等) 晶圓、芯片、微型半導體元件 精度 微米級 納米級(≤100nm) 潔凈度 普通工業(yè)環(huán)境 無塵室(Class100~1000) 工藝控制 電流/時間粗調 實時閉環(huán)控制(電流、流量、溫度) 鍍液類型 酸性/堿性鍍液 高純度鍍液(低雜質)
大尺寸晶圓兼容:適配12英寸(300mm)晶圓,向18英寸過渡。環(huán)保鍍液:無物、低毒配方,減少廢水處理壓力。智能化集成:AI工藝優(yōu)化:通過機器學習預測鍍層缺陷。與CMP(化學機械拋光)、PVD設備聯動,形成全自動金屬化產線
半導體滾鍍設備是封裝與芯片制造的關鍵裝備,通過精密旋轉與鍍液控制,實現納米級金屬鍍層的均勻沉積。其技術在于潔凈環(huán)境下的高精度工藝控制
是一種于半導體制造中金屬化工藝的精密設備,主要用于在半導體晶圓、芯片或微型元件表面沉積均勻的金屬鍍層。其在于通過可控的電化學或化學鍍工藝,實現高精度、高一致性的金屬覆蓋,滿足集成電路封裝、先進封裝及微機電系統等領域的特定需求
與傳統滾鍍不同,半導體滾鍍更注重工藝潔凈度、鍍層精度及與半導體材料的兼容性。
1.金屬互連:在晶圓上形成銅導線。
2.凸塊制備:沉積錫、銅、金等材料,用于芯片與基板的電氣連接。
3.阻擋層/種子層鍍覆:鍍鈦、鉭等材料,防止金屬擴散并增強附著力。
1.電鍍槽:
材質:耐腐蝕材料,避免污染鍍液
鍍液循環(huán)系統:維持鍍液成分均勻,過濾顆粒雜質
2.旋轉載具:
晶圓固定裝置:真空吸附或機械夾持,確保晶圓平穩(wěn)旋轉
轉速控制:通過伺服電機調節(jié)轉速,優(yōu)化鍍層均勻性
3.陽極系統:
可溶性/不溶性陽極:銅、鉑等材料,依鍍層需求選擇
陽極位置調節(jié):控制電場分布,減少邊緣效應
4.供液與噴淋系統:
多點噴淋頭:均勻分配鍍液至晶圓表面,避免氣泡滯留
流量控制:精確調節(jié)鍍液流速,匹配不同工藝需求
5.控制系統:
PLC/工控機:集成溫度、pH值、電流密度等參數監(jiān)測與反饋。
配方管理:存儲不同鍍層的工藝參數 環(huán)保型電鍍設備的廢氣收集系統采用蜂窩狀活性炭吸附塔,深度處理酸霧廢氣,確保排放達標。
電鍍設備是通過電解反應在物體表面沉積金屬層的裝置,用于形成保護性或功能性涂層。
其系統包括:
電解電源:提供0-24V直流電,電流可達數千安培,適配不同鍍種需求;
電解槽:耐腐蝕材質(如PP/PVDF),雙層防漏設計,容積0.5-10m3;
電極系統:陽極采用可溶性金屬或不溶性鈦籃,陰極掛具定制設計,確保接觸電阻<0.1Ω;
控制系統:精細溫控(±1℃)、pH監(jiān)測(±0.1)及鍍層厚度管理。
設備分類:
掛鍍線:精密件加工,厚度均勻性±5%;
滾鍍系統:小件批量處理,效率3-8㎡/h;
連續(xù)電鍍線:帶材/線材高速生產,產能達30㎡/h;選擇性電鍍:數控噴射,局部鍍層精度±3%。技術前沿:脈沖電鍍:納米晶結構(晶粒<50nm),孔隙率降低60%;
復合電鍍:添加納米顆粒(SiC/Al?O?),硬度達HV1200;智能化:機器視覺定位(±0.1mm),大數據實時優(yōu)化工藝。環(huán)保與應用:閉路水循環(huán)(回用率>90%)及重金屬回收技術;汽車(耐鹽霧>720h)、PCB(微孔鍍銅偏差<8%)、航空航天(耐溫800℃)等領域廣泛應用。設備正向高精度、低能耗、智能化發(fā)展,納米電鍍等新技術持續(xù)突破工藝極限。選型需結合基材特性、鍍層需求及成本綜合考量。 無氰電鍍設備配套活化劑與絡合劑,替代傳統含氰工藝,在保障鍍層質量的同時提升安全性。環(huán)保型電鍍設備供應商
滾鍍設備采用帶孔滾筒裝載小工件,旋轉翻滾中完成電鍍,高效處理螺絲、電子元件等批量小件。廣東深圳環(huán)保型電鍍設備
廢氣處理設備是電鍍設備不可或缺的配套設施,在電鍍生產過程中發(fā)揮著重要作用,具體關系如下:
電鍍過程中會產生如酸霧、堿霧、物氣體等有害廢氣。若不進行處理,這些廢氣會彌漫在車間內,不僅會對操作人員的身體健康造成嚴重危害。廢氣處理設備通過收集和凈化這些有害廢氣,能將車間內的空氣質量維持在安全標準范圍內,同時確保排放到大氣中的廢氣符合環(huán)保要求,從而保護環(huán)境和人員健康。
電鍍車間內的酸性或堿性廢氣具有腐蝕性,長期暴露在這些廢氣中,電鍍設備如鍍槽、整流器、加熱裝置等的金屬部件會被腐蝕,導致設備的使用壽命縮短,維修成本增加。
廢氣處理設備有效去除有害廢氣,減少對電鍍設備的腐蝕,保障電鍍生產的穩(wěn)定進行。
如果車間內廢氣彌漫,空氣中的灰塵、雜質等容易吸附在待鍍工件表面,影響鍍層與工件的結合力,導致鍍層出現麻點、、起皮等缺陷,降低電鍍產品的質量和良品率。廢氣處理設備有助于保持車間內空氣的清潔,減少空氣中雜質對鍍件的污染
隨著環(huán)保法規(guī)的日益嚴格,電鍍企業(yè)必須確保其生產過程中的廢氣排放達到國家和地方的環(huán)保標準。
廣東深圳環(huán)保型電鍍設備