原理：紫外線（UV）照射可以使水中的有機污染物發(fā)生光解反應。特別是波長為 185nm 和 254nm 的紫外線具有較強的氧化能力。185nm 的紫外線可以產生羥基自由基（?OH），這是一種強氧化劑，能夠將有機污染物氧化分解為二氧化碳、水和小分子有機酸等。254nm 的紫外線可以直接破壞有機污染物的化學鍵，使其分解。應用：在超純水制備中，紫外線氧化通常與其他處理方法聯(lián)合使用。例如，在經過活性炭吸附或超濾后的水中，利用紫外線氧化進一步去除殘留的有機污染物。在實驗室小型超純水設備或一些對水質要求不是極高的場合，紫外線氧化可以作為一種有效的有機污染物去除手段。不過，紫外線氧化對于一些難降解的有機污染物效果可能不佳，而且需要消耗一定的電能來維持紫外線燈的照射。超純水在包裝材料印刷中用于油墨調配與清洗。重慶應用超純水

、離子交換 陽離子交換樹脂 經過反滲透后的水，雖然大部分離子已經被去除，但仍含有少量的離子。此時，利用陽離子交換樹脂可以進一步去除水中的陽離子，如鈣、鎂、鈉等。陽離子交換樹脂上帶有酸性基團，能夠與水中的陽離子進行交換反應。例如，磺酸型陽離子交換樹脂（R - SO?H）與水中的鈣離子（Ca2?）發(fā)生交換反應，生成樹脂鈣鹽（R - SO?）?Ca 和氫離子（H?）。 陰離子交換樹脂 同時，使用陰離子交換樹脂去除水中的陰離子，如氯離子、硫酸根離子等。陰離子交換樹脂帶有堿性基團，例如季銨型陰離子交換樹脂（R - N (CH?)?OH）與水中的氯離子（Cl?）發(fā)生交換反應，生成樹脂氯鹽（R - N (CH?)?Cl）和氫氧根離子（OH?）。通過陰陽離子交換樹脂的組合使用，可以將水中的離子濃度降低到極低的水平。重慶應用超純水超純水的分配系統(tǒng)需防止交叉污染與回流現(xiàn)象。

環(huán)境濕度主要影響測量儀器和電極的表面狀態(tài)。如果環(huán)境濕度較高，儀器的外殼和電極表面可能會吸附水汽，形成一層薄薄的水膜。當這層水膜含有雜質時，例如空氣中的鹽類、灰塵等溶解在其中，就可能會引入額外的導電通路，導致測量的電阻率比實際值偏低。另外，高濕度環(huán)境下，空氣中的水分可能會進入測量樣品中，改變超純水的純度。尤其是在長時間的測量過程中，這種影響可能會累積。例如，在一個濕度為 80% 以上的環(huán)境中進行超純水電阻率測量，相比濕度為 40% 的環(huán)境，更容易出現(xiàn)測量誤差?？諝庵械幕瘜W污染物，如酸性氣體（二氧化硫、二氧化碳等）、堿性氣體（氨氣等）和揮發(fā)性有機物（VOCs），可能會溶解在超純水中，改變其化學組成和電阻率。例如，二氧化碳溶解在水中會形成碳酸，碳酸會部分電離產生氫離子和碳酸氫根離子，從而增加了水中的離子濃度，導致電阻率下降。

超純水是一種純度極高的水，其電阻率高達 18.2 MΩ?cm 以上，幾乎去除了水中所有的雜質，包括溶解性固體、有機物、微生物、膠體以及氣體等。它的制備工藝極為復雜且精密，往往綜合運用了反滲透、離子交換、超濾、紫外線殺菌、超濾膜過濾等多種先進技術手段。 在半導體制造領域，超純水是芯片生產過程中的關鍵要素。芯片的微小電路結構對雜質極為敏感，哪怕是極其微量的離子或顆粒雜質都可能導致芯片短路、性能下降甚至報廢。超純水用于芯片的清洗、光刻、蝕刻等各個工序，確保了芯片制造的高精度和高質量。生命科學研究常依賴超純水，防止雜質影響生物實驗。

原理：超濾主要基于篩分原理，在壓力差的作用下，使水和小分子物質通過超濾膜，而大分子有機物（如分子量大于 1000 - 10000Da 的有機物）被截留。超濾膜的孔徑在 1 - 100 納米之間，能夠去除水中的膠體、蛋白質、多糖等大分子有機物質。應用：在超純水制備過程中，超濾可以作為預處理步驟，去除水中的大分子有機污染物，減輕后續(xù)處理步驟（如反滲透、離子交換等）的負擔。例如，在制藥行業(yè)中，超濾可以用于去除藥物提取液中的大分子雜質，為后續(xù)的藥物純化和超純水制備提供品質很好的原料水。同時，超濾操作相對簡單，設備維護成本較低，但對于小分子有機物的去除效果有限。活性炭吸附在超純水制備中去除部分有機與余氯。重慶應用超純水

超純水在智能家電制造中用于關鍵部件的清洗。重慶應用超純水

連接管道：采用耐酸堿的塑料管道（如 UPVC 或 PVDF）連接清洗水箱、清洗泵和反滲透膜組件，管道直徑根據流量計算確定，同時要保證連接牢固、無泄漏?；瘜W藥劑，酸性清洗劑：如檸檬酸，純度不低于 99%，用于去除鈣、鎂等無機鹽垢。根據膜污染程度，將檸檬酸配制成 0.2% - 0.5%（質量分數(shù)）的溶液，例如，對于 5m3 的清洗水箱，需稱取 10 - 25kg 檸檬酸，先在少量水中溶解后再加入清洗水箱并補充水至規(guī)定體積。堿性清洗劑：可選用氫氧化鈉，純度不低于 96%，用于去除有機物和生物膜污染。配制成 0.1% - 0.3%（質量分數(shù)）的氫氧化鈉溶液，操作方法同酸性清洗劑配制。氧化劑清洗劑：如過氧化氫（濃度為 30%）或次氯酸鈉（有效氯含量不低于 10%），用于處理生物膜和一些難以氧化的有機物。過氧化氫溶液濃度可配制成 0.1% - 0.3%（體積分數(shù)），次氯酸鈉溶液有效氯濃度控制在 200 - 500ppm，配制時需注意安全，在通風良好的環(huán)境下操作并穿戴防護用品。重慶應用超純水