Thermal EMMI（Thermal Emission Microscopy）是一種利用半導(dǎo)體器件在工作過程中微弱熱輻射和光發(fā)射信號進(jìn)行失效點(diǎn)定位的先進(jìn)顯微技術(shù)。它通過高靈敏度探測器捕捉納瓦級別的紅外信號，并結(jié)合光學(xué)放大系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)微米甚至亞微米級的空間分辨率。相比傳統(tǒng)的電子探針或電性測試，Thermal EMMI在非接觸、無損檢測方面有明顯優(yōu)勢，能夠在器件通電狀態(tài)下直接觀測局部發(fā)熱熱點(diǎn)或電流泄漏位置。這種技術(shù)在先進(jìn)制程節(jié)點(diǎn)（如 5nm、3nm）中尤為關(guān)鍵，因?yàn)槠骷Y(jié)構(gòu)復(fù)雜且供電電壓低，任何細(xì)微缺陷都會(huì)在熱輻射分布上體現(xiàn)。通過Thermal EMMI，工程師能夠快速鎖定失效區(qū)域，大幅減少剖片和反復(fù)驗(yàn)證的時(shí)間，為芯片研發(fā)和生產(chǎn)帶來高效的故障分析手段。評估 PCB 走線布局、過孔設(shè)計(jì)對熱分布的影響，指導(dǎo)散熱片、導(dǎo)熱膠的選型與 placement。IC熱紅外顯微鏡應(yīng)用

在半導(dǎo)體失效分析實(shí)驗(yàn)室中，工程師們常常面臨令人頭疼的難題：一塊價(jià)值百萬的芯片突然“歇工”，卻遲遲找不到故障根源。傳統(tǒng)檢測手段輪番上陣——電性測試無從下手，物理開蓋又可能破壞關(guān)鍵痕跡，整個(gè)分析仿佛陷入迷霧之中。這時(shí)，Thermal EMMI（熱紅外顯微鏡）如同一位敏銳的“熱力神探”登場。它能夠捕捉芯片在微觀層面發(fā)出的極其微弱的熱輻射與光信號，毫不干擾樣品本體，實(shí)現(xiàn)非接觸式成像。借助其高靈敏度和高空間分辨率，隱藏在納米尺度下的異常熱點(diǎn)被一一揭示，讓“沉默”的芯片重新開口說話，助力工程師快速鎖定失效位置，為后續(xù)修復(fù)與優(yōu)化提供明確方向。在眾多復(fù)雜失效場景中，Thermal EMMI已成為不可或缺的利器。
半導(dǎo)體失效分析熱紅外顯微鏡廠家電話在高低溫循環(huán)（-40℃~125℃）中監(jiān)測車載功率模塊、傳感器的熱疲勞退化。

熱紅外顯微鏡是半導(dǎo)體失效分析與缺陷定位的三大主流手段之一（EMMI、THERMAL、OBIRCH），通過捕捉故障點(diǎn)產(chǎn)生的異常熱輻射，實(shí)現(xiàn)精細(xì)定位。存在缺陷或性能退化的器件通常表現(xiàn)為局部功耗異常，導(dǎo)致微區(qū)溫度升高。顯微熱分布測試系統(tǒng)結(jié)合熱點(diǎn)鎖定技術(shù)，能夠高效識別這些區(qū)域。熱點(diǎn)定位是一種動(dòng)態(tài)紅外熱成像方法，通過調(diào)節(jié)電壓提升分辨率與靈敏度，并借助算法優(yōu)化信噪比。在集成電路（IC）分析中，該技術(shù)廣泛應(yīng)用于定位短路、ESD損傷、缺陷晶體管、二極管失效及閂鎖問題等關(guān)鍵故障。

Thermal EMMI的制冷技術(shù)不斷升級，提升了探測器的靈敏度。探測器的噪聲水平與其工作溫度密切相關(guān)，溫度越低，噪聲越小，檢測靈敏度越高。早期的 thermal emmi 多采用液氮制冷，雖能降低溫度，但操作繁瑣且成本較高。如今，斯特林制冷、脈沖管制冷等新型制冷技術(shù)的應(yīng)用，使探測器可穩(wěn)定工作在更低溫度，且無需頻繁添加制冷劑，操作更便捷。例如，采用 深制冷技術(shù)的探測器，能有效降低暗電流噪聲，大幅提升對微弱光信號和熱信號的檢測能力，使 thermal emmi 能捕捉到更細(xì)微的缺陷信號。在半導(dǎo)體制造中，通過逐點(diǎn)熱掃描篩選熱特性不一致的晶圓，提升良率。

在半導(dǎo)體失效分析（Failure Analysis, FA）流程中，Thermal EMMI 是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。此前，工程師需要依靠大量電性參數(shù)測試、掃描聲學(xué)顯微鏡或X射線等方法逐步縮小可疑范圍，但對于微小短路、漏電或局部發(fā)熱缺陷，這些方法往往難以直接定位。Thermal EMMI 能夠在樣品上電并模擬實(shí)際工作條件的同時(shí)，捕捉缺陷點(diǎn)產(chǎn)生的瞬態(tài)熱信號，實(shí)現(xiàn)快速、直觀的可視化定位。尤其是在 BGA 封裝、多層 PCB 以及三維封裝（3D IC）等復(fù)雜結(jié)構(gòu)中，Thermal EMMI 的穿透力和高分辨率成像能力能縮短分析周期。此外，該技術(shù)還能與鎖相紅外熱成像（Lock-in Thermography）結(jié)合，提升弱信號檢測的信噪比，讓難以察覺的微小缺陷“現(xiàn)形”，為后續(xù)的物理剖片和根因分析提供依據(jù)。熱紅外顯微鏡的 AI 智能分析模塊，自動(dòng)標(biāo)記異常熱斑并匹配歷史失效數(shù)據(jù)庫。紅外光譜熱紅外顯微鏡設(shè)備

熱紅外顯微鏡結(jié)合自研算法，對微弱熱信號進(jìn)行定位分析，鎖定潛在缺陷 。IC熱紅外顯微鏡應(yīng)用

隨著國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，Thermal EMMI 技術(shù)正逐步從依賴進(jìn)口轉(zhuǎn)向自主研發(fā)。國產(chǎn) Thermal EMMI 設(shè)備不僅在探測靈敏度和分辨率上追平甚至超越部分國際產(chǎn)品，還在適配本土芯片工藝、降低采購和維護(hù)成本方面展現(xiàn)出獨(dú)特優(yōu)勢。例如，一些國產(chǎn)廠商針對國內(nèi)封測企業(yè)的需求，對探測器響應(yīng)波段、樣品臺尺寸、自動(dòng)化控制系統(tǒng)等進(jìn)行定制化設(shè)計(jì)，更好地適應(yīng)大批量失效分析任務(wù)。同時(shí)，本土研發(fā)團(tuán)隊(duì)能夠快速迭代軟件算法，如引入 AI 圖像識別進(jìn)行熱點(diǎn)自動(dòng)標(biāo)注，減少人工判斷誤差。這不僅提升了檢測效率，也讓 Thermal EMMI 從傳統(tǒng)的“精密實(shí)驗(yàn)室設(shè)備”走向生產(chǎn)線質(zhì)量控制工具，為國產(chǎn)芯片在全球競爭中提供可靠的技術(shù)支撐。IC熱紅外顯微鏡應(yīng)用