晶圓作為半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵材料，其表面質(zhì)量和完整性直接決定了芯片的性能和可靠性。機(jī)械吸臂在搬運(yùn)晶圓過(guò)程中，必須要保證晶圓不受任何損傷和污染。任何微小的劃痕、顆粒污染或靜電放電都可能導(dǎo)致晶圓報(bào)廢，從而增加生產(chǎn)成本。因此，高精度、高可靠性的機(jī)械吸臂是確保晶圓質(zhì)量和成品率的重要保障。此外，隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展，芯片制造工藝越來(lái)越復(fù)雜，晶圓尺寸也不斷增大，對(duì)晶圓搬運(yùn)的精度和穩(wěn)定性要求也越來(lái)越高。例如，在先進(jìn)的集成電路制造工藝中，晶圓的線寬已經(jīng)達(dá)到納米級(jí)別，這就要求機(jī)械吸臂在搬運(yùn)晶圓時(shí)的定位精度要達(dá)到亞微米甚至更高的級(jí)別。一般機(jī)構(gòu)可由電力、液壓、氣動(dòng)、人力驅(qū)動(dòng)。茂名晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂廠商

與傳統(tǒng)的SCARA型搬運(yùn)機(jī)械手相比，蛙腿型機(jī)械手的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)更簡(jiǎn)單，剛性更高，且工作效率更高。如上圖所示，蛙腿型機(jī)械手手臂為對(duì)稱雙連桿的并聯(lián)結(jié)構(gòu)，包括1對(duì)大臂和2對(duì)小臂。2個(gè)直驅(qū)電機(jī)分別通過(guò)2個(gè)同軸的旋轉(zhuǎn)軸連接大臂，大臂末端通過(guò)4個(gè)旋轉(zhuǎn)軸連接尺寸相同的2對(duì)小臂，2對(duì)小臂的末端又通過(guò)2個(gè)旋轉(zhuǎn)軸連接晶圓托盤(pán)。 該機(jī)械手雖然只有3個(gè)電機(jī)，但水平連桿卻有10個(gè)旋轉(zhuǎn)關(guān)節(jié)，因此對(duì)整個(gè)真空機(jī)械手建立旋轉(zhuǎn)關(guān)節(jié)坐標(biāo)與末端晶圓托盤(pán)坐標(biāo)之間的函數(shù)關(guān)系是一個(gè)復(fù)雜的過(guò)程茂名晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂賣(mài)價(jià)根據(jù)機(jī)械手運(yùn)動(dòng)和工作的要求，如管路、冷卻裝置、行程定位裝置和自動(dòng)檢測(cè)裝置等.

主體部分通常采用強(qiáng)度高、輕質(zhì)的材料，如鋁合金或碳纖維復(fù)合材料，以確保在保證結(jié)構(gòu)強(qiáng)度的同時(shí)減輕自身重量，減少運(yùn)動(dòng)慣性，提高操作的靈活性和響應(yīng)速度。吸臂的形狀和尺寸經(jīng)過(guò)精心設(shè)計(jì)，以適應(yīng)不同尺寸晶圓的搬運(yùn)需求。一般具有多個(gè)關(guān)節(jié)和自由度，能夠?qū)崿F(xiàn)多角度的靈活運(yùn)動(dòng)，類似于人類手臂的關(guān)節(jié)活動(dòng)。例如，常見(jiàn)的多關(guān)節(jié)機(jī)械吸臂可以在三維空間內(nèi)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)、伸展、彎曲等動(dòng)作，確保晶圓能夠準(zhǔn)確地從一個(gè)位置移動(dòng)到另一個(gè)位置，無(wú)論是在光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等設(shè)備之間的轉(zhuǎn)移，還是在晶圓存儲(chǔ)盒與加工設(shè)備之間的傳送，都能精確無(wú)誤。

晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂是半導(dǎo)體制造過(guò)程中至關(guān)重要的設(shè)備組件，它專門(mén)用于精確、可靠地搬運(yùn)晶圓。晶圓作為半導(dǎo)體芯片的基礎(chǔ)材料，其制造過(guò)程對(duì)環(huán)境和操作的精度要求極高，任何微小的污染或損傷都可能導(dǎo)致芯片性能下降甚至報(bào)廢。機(jī)械吸臂在這個(gè)過(guò)程中扮演著“晶圓搬運(yùn)工”的關(guān)鍵角色，確保晶圓在不同工序和設(shè)備之間安全、準(zhǔn)確地傳遞。它通常由高精度的機(jī)械結(jié)構(gòu)、先進(jìn)的傳感系統(tǒng)和智能的控制系統(tǒng)組成。能夠在微觀尺度上實(shí)現(xiàn)對(duì)晶圓的精確操作，同時(shí)要適應(yīng)半導(dǎo)體制造車間的超凈環(huán)境和嚴(yán)格的工藝要求。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展，晶圓尺寸不斷增大，制造工藝愈發(fā)復(fù)雜，對(duì)晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂的性能和可靠性也提出了更高的要求。隨著宇航業(yè)及機(jī)器人業(yè)的飛速發(fā)展，越來(lái)越多地采用由若干個(gè)柔性構(gòu)件組成的多柔體系統(tǒng)。

本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體制造技術(shù)，尤其是一種用于晶圓搬運(yùn)的機(jī)械手。

背景技術(shù)：

在半導(dǎo)體加工設(shè)備中，經(jīng)常需要將晶圓在各個(gè)工位之間進(jìn)行傳送，在傳送的過(guò)程中，傳送精度越高，設(shè)備工藝一致性就越好，速度越快，單臺(tái)設(shè)備的產(chǎn)能就越大。隨著半導(dǎo)體工藝的發(fā)展，設(shè)備處理的工藝越來(lái)越復(fù)雜，對(duì)設(shè)備自動(dòng)化程度、柔性化程度要求也越來(lái)越高，這就需要一種定位精度高，速度快的多自由度的機(jī)械手。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供了一種晶圓搬運(yùn)機(jī)械手，本發(fā)明的機(jī)械手在傳送過(guò)程中晶片中心始終保證直線運(yùn)動(dòng)，且角度不會(huì)發(fā)生改變。從而提高機(jī)械手整體剛度和承重能力，同時(shí)提高了重復(fù)定位精度。本發(fā)明結(jié)構(gòu)合理性能穩(wěn)定，維護(hù)方便，多功能集一身，可滿足多種工藝設(shè)備要求，適用于各種半導(dǎo)體設(shè)備。

工業(yè)機(jī)械臂的工作原理。茂名官方晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂哪個(gè)牌子好

因此，在設(shè)計(jì)手臂時(shí)，須根據(jù)機(jī)械手抓取重量、自由度數(shù)、工作范圍、運(yùn)動(dòng)速度及機(jī)械手的整體布局。茂名晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂廠商

進(jìn)行光刻：

將設(shè)計(jì)好的電路掩模，置于光刻機(jī)的紫外射線下，然后再在它的下面放置Wafer，這一刻，Wafer上被光刻部分的光刻膠被融化掉，刻上了電路圖。然后將光刻膠去除，光刻膠上的圖案要與掩模上的圖案一致，然后進(jìn)行再次光刻。一般來(lái)說(shuō)一個(gè)晶圓的電路要經(jīng)過(guò)多次光刻。而隨著技術(shù)革新，極紫光刻出現(xiàn)了，現(xiàn)階段光刻的效率變得比以前更高，甚至于可以達(dá)到光刻一次完成。

注射：

在真空下，將導(dǎo)電材料注入晶圓的電路內(nèi)部。其真空的標(biāo)準(zhǔn)比無(wú)菌室或ICU還要高出千萬(wàn)倍。 茂名晶圓運(yùn)送機(jī)械吸臂廠商

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