Nanoscribe雙光子聚合技術(shù)所具有的高設(shè)計自由度，可以在各種預(yù)先構(gòu)圖的基板上實(shí)現(xiàn)波導(dǎo)和混合折射衍射光學(xué)器件等3D微納加工制作。結(jié)合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng)，可以按設(shè)計需要精確地集成復(fù)雜的微納結(jié)構(gòu)。光學(xué)和光電組件的小型化對于實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)通信和電信以及傳感和成像的應(yīng)用至關(guān)重要。通過傳統(tǒng)的微納3D打印來制作自由曲面透鏡等其他新穎設(shè)計會有分辨率不足和光學(xué)質(zhì)量表面不達(dá)標(biāo)的缺陷，但是利用雙光子聚合原理則可以完美解決這些問題。該技術(shù)不僅可以用于在平面基板上打印微納米部件，還可以直接在預(yù)先設(shè)計的圖案和拓?fù)渖暇_地直接打印復(fù)雜結(jié)構(gòu)，包括光子集成電路，光纖頂端和預(yù)制晶片等。增材制造究竟是什么技術(shù)？想要了解請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。上海工業(yè)級增材制造

為了制作由3D工程細(xì)胞微環(huán)境制成的體外細(xì)胞培養(yǎng)物，科學(xué)家們利用雙光子聚合技術(shù)（2PP）來制造模擬腦血管幾何形狀的仿生3D支架，該仿生幾何結(jié)構(gòu)影響膠質(zhì)母細(xì)胞瘤細(xì)胞及其定植機(jī)制。在該實(shí)驗中，細(xì)胞可以在定制3D支架幾何結(jié)構(gòu)的引導(dǎo)下以受控方式生長。只有在強(qiáng)聚焦的激光焦點(diǎn)處才能發(fā)生雙光子吸收的光聚合反應(yīng)可實(shí)現(xiàn)在亞微米范圍內(nèi)打印**精細(xì)的3D特征結(jié)構(gòu)。此外，這種增材制造技術(shù)可在微米級別實(shí)現(xiàn)高度三維設(shè)計自由度，并以比較高精度模擬三維細(xì)胞微環(huán)境。天津高精度增材制造三維微納米加工系統(tǒng)突破傳統(tǒng)制造限制，納糯三維助您實(shí)現(xiàn)創(chuàng)新設(shè)計。

Nanoscribe將在未來進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化，以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米，微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造專業(yè)人才，一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)3D微納加工系統(tǒng)和無掩模光刻系統(tǒng)，以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院(KIT)的衍生公司。在全球前列大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中，有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。Nanoscribe憑借其過硬的技術(shù)背景和市場敏銳度奠定了其市場的主導(dǎo)地位，并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上特別高分辨率的3D無掩模光刻技術(shù)，用于快速，特別高精度的微納加工，可以輕松3D微納光學(xué)制作?？梢源钆洳煌幕澹úＡ?，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實(shí)現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。我們的3D微納加工技術(shù)可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復(fù)雜微機(jī)械元件的要求。3D設(shè)計的多功能性對于制作復(fù)雜且響應(yīng)迅速的高精度微型機(jī)械，傳感器和執(zhí)行器是至關(guān)重要的?；陔p光子聚合原理的激光直寫技術(shù)，可適用于您的任何新穎創(chuàng)意的快速原型制作；也適合科學(xué)家和工程師們在無需額外成本增加的前提下，實(shí)現(xiàn)不同參數(shù)的創(chuàng)新3D結(jié)構(gòu)的制作。走進(jìn)Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司，學(xué)習(xí)增材制造工藝原理。

Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統(tǒng)制造商，它推出了一種新型機(jī)器QuantumX.新的系統(tǒng)使用雙光子光刻技術(shù)制造納米尺寸的折射和衍射微光學(xué)元件，其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beers定律對當(dāng)今的無掩模光刻設(shè)備施加了強(qiáng)大的限制。QuantumX采用雙光子灰度光刻技術(shù)，克服了這些限制，提供了前所未有的設(shè)計自由度和易用性。我們的客戶正在微加工的**前沿工作?！癗anoscribe成立于卡爾斯魯厄理工學(xué)院，現(xiàn)在在上海設(shè)有子公司，在美國設(shè)有辦事處。該公司在德國歷史特別悠久，規(guī)模比較大的光學(xué)系統(tǒng)制造商之一蔡司財務(wù)的支持。納米標(biāo)記系統(tǒng)基于雙光子吸收，這是一種分子被激發(fā)到更高能態(tài)的過程。為了使用雙光子工藝制造3D物體，使用含有單體和雙光子活性光引發(fā)劑的凝膠作為原料。將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強(qiáng)度比較高。選擇納糯三維，體驗高效、穩(wěn)定的工業(yè)級金屬3D打印服務(wù)。重慶微納米增材制造多少錢

增材制造與3D技術(shù)有什么區(qū)別？想要了解請咨詢Nanoscribe在中國的子公司納糯三維科技（上海）有限公司。上海工業(yè)級增材制造

QuantumX新型超高速無掩模光刻技術(shù)的中心是Nanoscribe獨(dú)有的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL®）。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性完美結(jié)合，使其同時具備高速打印，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設(shè)計迭代，打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術(shù)驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。另外，Nanoscribe雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)技術(shù)要點(diǎn)，這項技術(shù)的關(guān)鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達(dá)到精細(xì)同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術(shù)將灰度光刻的出色性能與雙光子聚合的精確性和靈活性*結(jié)合，使其同時具備高速打印，完全設(shè)計自由度和超高精度的特點(diǎn)。從而滿足了高級復(fù)雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。上海工業(yè)級增材制造