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杭州博測(cè)材料科技有限公司2025-08-05
原位變溫紫外測(cè)是能夠?qū)崟r(shí)監(jiān)測(cè)：在控溫環(huán)境下直接采集光譜，保留材料在目標(biāo)溫度下的真實(shí)構(gòu)象（如聚合物熔融態(tài)的無序結(jié)構(gòu)）；
? 全程連續(xù)追蹤：升/降溫全程數(shù)據(jù)無縫銜接，揭示可逆轉(zhuǎn)變（如VO?的金屬-絕緣體相變回滯環(huán)）；
? 氣氛可控：集成密閉反應(yīng)池，維持惰性/反應(yīng)性氣氛（如高溫下防止碳材料氧化）。
案例：鈣鈦礦薄膜在150°C退火時(shí)，非原位測(cè)試因冷卻導(dǎo)致殘余應(yīng)力釋放，掩蓋了實(shí)際相純度；原位數(shù)據(jù)則顯示升溫中預(yù)相變特征峰，指導(dǎo)優(yōu)化退火工藝。
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原位變溫紫外測(cè)試能夠進(jìn)行 時(shí)間-溫度雙維度解析： 通過變溫速率控制（如5°C/min）下的光譜序列，繪制吸收邊位置（Eg）-溫度曲線，一階導(dǎo)數(shù)峰值精確定位相變點(diǎn)（誤差<±1°C）；恒溫模式下追蹤特征峰強(qiáng)度隨時(shí)間變化，擬合動(dòng)力學(xué)模型（如Avrami方程求相變成核維度n）； 瞬態(tài)過程捕獲：毫秒級(jí)快速掃描捕獲短壽命中間體（如聚合物裂解產(chǎn)生的自由基中間體）；活化能計(jì)算：通過Arrhenius方程擬合峰位移速率，獲得能壘（如催化反應(yīng)中吸附能ΔE?）。
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