本發(fā)明涉及一種用來在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦的蝕刻液及使用該蝕刻液的蝕刻方法。背景技術(shù):以往,在蝕刻鈦時(shí)一直使用含有氫氟酸或過氧化氫的蝕刻液。例如專利文獻(xiàn)1中提出了一種鈦的蝕刻液,該鈦的蝕刻液是用來在銅或鋁的存在下蝕刻鈦,并且該蝕刻液的特征在于:利用由10重量%至40重量%的過氧化氫、%至5重量%的磷酸、%至%的膦酸系化合物及氨所構(gòu)成的水溶液將pH值調(diào)整為7至9。但是,含有氫氟酸的蝕刻液存在毒性高的問題,含有過氧化氫的蝕刻液存在缺乏保存穩(wěn)定性的問題?,F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1:日本特許第4471094號(hào)說明書。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:發(fā)明所要解決的問題本發(fā)明是鑒于所述實(shí)際情況而成,其目的在于提供一種蝕刻液及使用該蝕刻液的蝕刻方法,所述蝕刻液可在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦,而且毒性低,保存穩(wěn)定性優(yōu)異。解決問題的技術(shù)手段本發(fā)明的蝕刻液是為了在銅的存在下選擇性地蝕刻鈦而使用,并且含有:選自由硫酸、鹽酸及三氯乙酸所組成的群組中的至少一種酸;以及選自由硫酮系化合物及硫醚系化合物所組成的群組中的至少一種有機(jī)硫化合物。所述硫酮系化合物推薦為選自由硫脲、二乙基硫脲及三甲基硫脲所組成的群組中的至少一種。蝕刻不同金屬用到的蝕刻液一樣嗎?綿陽格林達(dá)蝕刻液價(jià)格
當(dāng)該風(fēng)刀裝置40的***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42為了減少該基板20上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時(shí),該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會(huì)往該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121流動(dòng),并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出,除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現(xiàn)象,亦可達(dá)到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問題;此外,為了避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題,因此,該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,例如:孔徑a0小于3mm,即可因毛細(xì)現(xiàn)象的作用,亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與該第二擋板12的該上表面123所夾的接觸角θ4,而達(dá)到防止位于該第二擋板12的該上表面123的藥液51水滴經(jīng)由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121滴下至該基板20上。由上述的實(shí)施說明可知,本實(shí)用新型的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備與現(xiàn)有技術(shù)相較之下,本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn)。本實(shí)用新型的擋液板結(jié)構(gòu)與以之制備的蝕刻設(shè)備主要借由具有復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔的擋液板結(jié)構(gòu)搭配風(fēng)刀裝置的硬體設(shè)計(jì),有效使風(fēng)刀裝置吹出的氣體得以經(jīng)由宣泄孔宣泄,并利用水滴的表面張力現(xiàn)象防止水滴由宣泄孔落下造成基板蝕刻不均等異常現(xiàn)象。安慶BOE蝕刻液蝕刻液推薦廠家BOE蝕刻液的溶液配比。
引線框架的腐蝕是如何生產(chǎn)的呢?引線框架的材料主要是電子銅帶,常見在引線框架中通過亮鎳、錫和錫鉛鍍層下進(jìn)行鍍鎳完成保護(hù)金屬材料的目的,在材質(zhì)過程中42合金引線相對(duì)來說容易發(fā)生應(yīng)力-腐蝕引發(fā)的裂紋。為了保障引線框架的優(yōu)異的導(dǎo)電性和散熱性,處理方式通過電鍍銀、片式電鍍線,將引線和基島表面作特殊處理,這樣能夠保障焊線和引線框架的良好焊接性能。引線框架電鍍銀蝕刻工藝流程主要分:上料-電解除油-活化-預(yù)鍍銅-預(yù)鍍銀-局部鍍銀-退銀-防銀膠擴(kuò)散-防銅變色-烘干-收料。通過該蝕刻工藝流程能夠保障引線框架蝕刻過程中電鍍層的厚度、光亮度、粗糙度、潔凈度等。因此,蝕刻引線框架對(duì)工藝和工廠的管理需要嚴(yán)格控制。
也不能在回收結(jié)束后對(duì)裝置內(nèi)部進(jìn)行清理的問題。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置,包括裝置主體,所述裝置主體內(nèi)部中間位置固定安裝有分隔板,所述分隔板左端表面靠近中間位置固定安裝有承載板,所述承載板上端表面放置有電解池,所述電解池內(nèi)部中間位置設(shè)置有隔膜,所述裝置主體上端表面靠近右側(cè)安裝有進(jìn)液漏斗,所述進(jìn)液漏斗上設(shè)置有過濾網(wǎng),所述裝置主體內(nèi)部靠近頂端設(shè)置有進(jìn)液管,所述進(jìn)液管左端連接有伸縮管,所述伸縮管下端安裝有噴頭,所述裝置主體上端表面靠近左側(cè)固定安裝有液壓缸,所述液壓缸下端安裝有伸縮桿,所述伸縮桿下端固定安裝有圓環(huán)塊,所述圓環(huán)塊與噴頭之間固定連接有連接桿,所述分隔板右端表面靠近上端固定安裝有增壓泵,所述增壓泵下端與電解池之間連接有回流管,所述增壓泵上端與進(jìn)液管之間連接有一號(hào)排液管,所述回流管內(nèi)部左端設(shè)置有一號(hào)電磁閥,所述裝置主體左端表面靠近上端固定安裝有抽氣泵,所述抽氣泵下方設(shè)置有集氣箱,所述集氣箱與抽氣泵之間連接有排氣管,所述電解池下端連接有二號(hào)排液管,所述二號(hào)排液管內(nèi)部上端設(shè)置有二號(hào)電磁閥,所述裝置主體內(nèi)部底端靠近左側(cè)設(shè)置有傾斜板。如何挑選一款適合公司的蝕刻液?
本實(shí)用涉及蝕刻設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種ito蝕刻液制備裝置。背景技術(shù):蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù),蝕刻技術(shù)分為濕蝕刻和干蝕刻,其中,濕蝕刻是采用化學(xué)試劑,經(jīng)由化學(xué)反應(yīng)達(dá)到蝕刻的目的,薄膜場(chǎng)效應(yīng)晶體管液晶顯示器(tft~lcd)、發(fā)光二極管(led)、有機(jī)發(fā)光二極管(oled)等行業(yè)用作面板過程中銦錫氧化物半導(dǎo)體透明導(dǎo)電膜(ito)的蝕刻通常采用鹽酸和硝酸的混合水溶液。現(xiàn)有的制備裝置在進(jìn)行制備時(shí)會(huì)發(fā)***熱反應(yīng),使得裝置外殼穩(wěn)定較高,工作人員直接接觸有燙傷風(fēng)險(xiǎn),熱水與鹽酸接觸會(huì)產(chǎn)生較為劇烈的反應(yīng),濺出容易傷害工作人員,保護(hù)性不足,鹽酸硝酸具有較強(qiáng)的腐蝕性,常規(guī)的攪拌裝置容易被腐蝕,影響蝕刻液的質(zhì)量,用防腐蝕的聚四氟乙烯攪拌漿進(jìn)行攪拌,成本過高,且混合的效果不好。所以,如何設(shè)計(jì)一種ito蝕刻液制備裝置,成為當(dāng)前要解決的問題。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本實(shí)用新型的目的在于提供一種ito蝕刻液制備裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出的ito蝕刻液制備裝置保護(hù)性不足、不具備很好的防腐蝕性和混合的效果不好的問題。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種ito蝕刻液制備裝置,包括制備裝置主體、高效攪拌裝置和過濾除雜裝置。BOE蝕刻液的主要成分。安慶BOE蝕刻液蝕刻液銷售公司
哪家公司的蝕刻液的是口碑推薦?綿陽格林達(dá)蝕刻液價(jià)格
內(nèi)部頂部兩側(cè)的震蕩彈簧件14,震蕩彈簧件14頂端的運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組13,運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組13頂端的控制面板15,內(nèi)部中間部位的致密防腐桿16和致密防腐桿16內(nèi)部內(nèi)側(cè)的攪動(dòng)孔17共同組合而成,由于鹽酸硝酸具有較強(qiáng)的腐蝕性,常規(guī)的攪拌裝置容易被腐蝕,影響蝕刻液的質(zhì)量,用防腐蝕的聚四氟乙烯攪拌漿進(jìn)行攪拌,成本過高,且混合的效果不好,通過設(shè)置高效攪拌裝置2,該裝置通過運(yùn)轉(zhuǎn)電機(jī)組13驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤12,使旋轉(zhuǎn)搖勻轉(zhuǎn)盤12帶動(dòng)高效攪拌裝置2進(jìn)行旋轉(zhuǎn)搖勻,同時(shí)設(shè)置的震蕩彈簧件14可通過驅(qū)動(dòng)對(duì)高效攪拌裝置2進(jìn)行震蕩搖勻,高效攪拌裝置2內(nèi)部的蝕刻液通過內(nèi)置的致密防腐桿16,致密防腐桿16內(nèi)部的攪動(dòng)孔17能夠使蝕刻液不斷細(xì)化均勻化,從而很好的防止了蝕刻液的腐蝕,且成本低廉,攪拌均勻效果較好。推薦的,注入量精確調(diào)配裝置是由鹽酸裝罐7內(nèi)部一側(cè)的嵌入引流口22,嵌入引流口22一端的負(fù)壓引流器21,負(fù)壓引流器21一端的注入量控制容器18,注入量控制容器18內(nèi)部內(nèi)側(cè)的注入量觀察刻度線19和注入量控制容器18一側(cè)的限流銷20共同組合而成,現(xiàn)有的制備裝置無法對(duì)相關(guān)原料的注入量進(jìn)行精確控制,無法很好的保證蝕刻液制備的純度,通過設(shè)置注入量精確調(diào)配裝置。綿陽格林達(dá)蝕刻液價(jià)格