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成都江化微的蝕刻液蝕刻液聯(lián)系方式

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-08-28

近年來(lái),oled顯示器廣泛應(yīng)用于手機(jī)和平板顯示。金屬銀以?xún)?yōu)異的電導(dǎo)率和載流子遷移率被廣泛應(yīng)用于oled顯示器的陽(yáng)極布線(ito/ag/ito)結(jié)構(gòu)中。為了對(duì)此進(jìn)行蝕刻,目前主要使用基于磷酸、硝酸、醋酸和硝酸鹽的濕蝕刻液(cna)。這樣的體系雖然能有效去除金屬銀,但在實(shí)際使用過(guò)程中仍會(huì)存在少量的銀殘留或銀再吸附沉積問(wèn)題。4.本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題在于如何解決現(xiàn)有的銀蝕刻液在使用過(guò)程中存在少量的銀殘留、銀再吸附沉積問(wèn)題。5.本發(fā)明通過(guò)以下技術(shù)手段實(shí)現(xiàn)解決上述技術(shù)問(wèn)題的:6.一種銀蝕刻液組合物,其成分由質(zhì)量占比為40-60%磷酸、2-10%硝酸、%有機(jī)酸、%硝酸鹽、%含氮元素有機(jī)物、其余為水組成。蝕刻液的分類(lèi)有哪些;成都江化微的蝕刻液蝕刻液聯(lián)系方式

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以帶動(dòng)該基板20由該噴灑裝置50下端部朝向該風(fēng)刀裝置40的該***風(fēng)刀41下端部的方向移動(dòng)。該風(fēng)刀裝置40設(shè)置于該擋液板結(jié)構(gòu)10的一端部,該風(fēng)刀裝置40包括有一設(shè)置于該基板20上方的***風(fēng)刀41,以及一設(shè)置于該基板20下方的第二風(fēng)刀42,其中該***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42分別吹出一氣體43至該基板20,以將該基板20上的一藥液51帶往與相反于該基板20的行進(jìn)方向,以使該基板20上該藥液51減少,其中該氣體43遠(yuǎn)離該***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42的方向分別與該基板20的法線方向夾設(shè)有一第三夾角θ3,且該第三夾角θ3介于20度至35度之間。此外,請(qǐng)一并參閱圖8與圖9所示,為本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風(fēng)刀裝置示意圖,以及宣泄孔的表面張力局部放大圖,其中該宣泄孔121為直通孔的態(tài)樣,當(dāng)該風(fēng)刀裝置40的***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42為了減少該基板(本圖式未標(biāo)示)上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時(shí),該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會(huì)往該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121流動(dòng),并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出(如圖8所示),除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現(xiàn)象,亦可達(dá)到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問(wèn)題;此外。合肥ITO蝕刻液蝕刻液報(bào)價(jià)使用蝕刻液需要什么條件。

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將蝕刻液通過(guò)回流管抽入到一號(hào)排液管中,并由進(jìn)液管導(dǎo)入到伸縮管中,直至蝕刻液由噴頭重新噴到電解池中,可以充分的將蝕刻液中的亞銅離子電解轉(zhuǎn)化為金屬銅,起到循環(huán)電解蝕刻液的作用;該回收處理裝置通過(guò)設(shè)置有伸縮管與伸縮桿,能夠在蝕刻液通過(guò)進(jìn)液管流入到電解池中時(shí),啟動(dòng)液壓缸帶動(dòng)伸縮桿向上移動(dòng),從而通過(guò)圓環(huán)塊配合伸縮管帶動(dòng)噴頭向上移動(dòng),進(jìn)而將蝕刻液緩慢的由噴頭噴入到電解池中,避免蝕刻液對(duì)電解池造成沖擊而影響其使用壽命,具有保護(hù)電解池的功能;該回收處理裝置通過(guò)設(shè)置有集氣箱與蓄水箱,能夠在電解蝕刻液結(jié)束后,啟動(dòng)抽氣泵,將電解池中產(chǎn)生的有害氣體抽入到排氣管并導(dǎo)入到集氣箱中,實(shí)現(xiàn)有害氣體的清理,接著啟動(dòng)增壓泵并打開(kāi)三號(hào)電磁閥,將蓄水箱中的清水通過(guò)抽水管抽入到進(jìn)液管中,將裝置主體內(nèi)部的蝕刻液進(jìn)行清洗,具有很好的清理作用。附圖說(shuō)明圖1為本發(fā)明的整體結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為本發(fā)明的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖;圖3為本發(fā)明圖2中a的示意圖;圖4為本發(fā)明圖3的整體示意圖;圖5為本發(fā)明電解池的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中:1、裝置主體;2、分隔板;3、承載板;4、電解池;5、隔膜;6、進(jìn)液漏斗;7、過(guò)濾網(wǎng);8、進(jìn)液管;9、伸縮管;10、噴頭;11、液壓缸。

避免連接構(gòu)件11的兩側(cè)與操作人員的手接觸的時(shí)候,會(huì)因操作人員的手沾濕出現(xiàn)手滑的情況,有效的保證了裝置內(nèi)部構(gòu)件的連接工作能正常的進(jìn)行。推薦的,支撐腿2的底端嵌入連接有防滑紋6,在制備蝕刻液的時(shí)候,需要將裝置固定的特定的位置,通過(guò)支撐腿2將裝置主體1進(jìn)行支撐固定,在支撐腿2與固定位置的接觸面接觸時(shí),防滑紋6能增大支撐腿2的底端與固定接觸面的摩擦力,使裝置主體1能有足夠的抓地力固定在固定位置上,有效的提高了裝置固定的防滑性。推薦的,過(guò)濾部件9的內(nèi)部?jī)蓚?cè)嵌入連接有過(guò)濾板26,常規(guī)的生產(chǎn)方法是將蝕刻液中的各組份在同一容器中一起混合,其分散混合性能差,蝕刻液雜質(zhì)含量多,過(guò)濾板26能將蝕刻液內(nèi)部的雜質(zhì)進(jìn)行過(guò)濾,使制備出的蝕刻液的雜質(zhì)被過(guò)濾板26過(guò)濾出,得到不含雜質(zhì)的蝕刻液,避免多種強(qiáng)酸直接共混有效的減小了蝕刻液制備的安全隱患。推薦的,過(guò)濾部件9設(shè)置有一個(gè),過(guò)濾部件9設(shè)置在連接構(gòu)件11的內(nèi)側(cè),過(guò)濾部件9與連接構(gòu)件11固定連接,過(guò)濾部件9能將制備出的蝕刻液進(jìn)行過(guò)濾,且過(guò)濾部件9能將內(nèi)部的過(guò)濾板26進(jìn)行拆卸更換,將過(guò)濾部件9的內(nèi)部進(jìn)行清洗,在將過(guò)濾部件9進(jìn)行連接安裝時(shí),將滑動(dòng)蓋24向外側(cè)滑動(dòng)。歡迎光臨蘇州博洋化學(xué)股份有限公司。

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目前的平面顯示裝置,尤其是有機(jī)電激發(fā)光顯示器,多使用鉻金屬作為導(dǎo)線的材料。但是因?yàn)殂t金屬的阻值高,因此研究者一直在尋求利用阻值較低的金屬作為導(dǎo)線的材料。以往曾經(jīng)有提議以銀作為平面顯示裝置的導(dǎo)線材料,但是因?yàn)闊o(wú)適當(dāng)穩(wěn)定的蝕刻液組成物,所以并未有***的運(yùn)用。近幾年為提高平面顯示裝置的效能,研究者仍專(zhuān)注于如何降低導(dǎo)線材料的電阻值。銀合金目前被視為適當(dāng)?shù)膶?dǎo)線材料,因其阻值低于其他的金屬。此外,含銀量超過(guò)80%以上的銀合金,雖然阻值未若銀金屬一般低,但是其阻值遠(yuǎn)低于鉻金屬。然而由于銀合金未具有適當(dāng)?shù)奈g刻液,所以并沒(méi)有廣泛應(yīng)用于晶片或面板的黃光制程。發(fā)明人爰因于此,本于積極發(fā)明的精神,亟思一種可以解決上述問(wèn)題的“銀合金蝕刻液”,幾經(jīng)研究實(shí)驗(yàn)終至完成此項(xiàng)嘉惠世人的發(fā)明。平板顯示用的蝕刻液有哪些;池州市面上哪家蝕刻液銷(xiāo)售電話

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該宣泄孔121的上孔徑a1與下孔徑a2亦不相等,且該上孔徑a1小于該下孔徑a2,或該宣泄孔121由該第二擋板12的下表面122朝向上表面123的方向漸縮,以維持毛細(xì)現(xiàn)象而避免該藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問(wèn)題。當(dāng)該風(fēng)刀裝置40的***風(fēng)刀41與該第二風(fēng)刀42為了減少該基板(本圖式未標(biāo)示)上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時(shí),該氣體43碰到該擋液板結(jié)構(gòu)10后部分會(huì)往該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121流動(dòng),并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出(如圖10與圖11所示),除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的顯影不均現(xiàn)象,亦可達(dá)到避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問(wèn)題;為了必須避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問(wèn)題,故該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,例如:孔徑a0小于3mm,即可因毛細(xì)現(xiàn)象的作用,亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內(nèi)的夾角θ等于該水滴與該第二擋板12的該上表面123所夾的接觸角θ4,而達(dá)到防止位于該第二擋板12上表面的藥液51水滴經(jīng)由該復(fù)數(shù)個(gè)宣泄孔121滴下至該基板20上(如圖12所示)。另請(qǐng)參閱圖13所示,為本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備的蝕刻方法的步驟流程圖,其中本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備的蝕刻方法主要包括有下列步驟。成都江化微的蝕刻液蝕刻液聯(lián)系方式