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⒉較小的畸變：畸變是變焦鏡頭比較大的軟肋，幾乎所有涉及廣角的變焦鏡頭都存在明顯的畸變問(wèn)題，而定焦鏡頭因?yàn)橹恍鑼?duì)一個(gè)焦段的成像進(jìn)行糾正與優(yōu)化，所以往往很少會(huì)出現(xiàn)畸變現(xiàn)象。另外值得一提的是，旁軸相機(jī)在廣角畸變上比單反相機(jī)有天生優(yōu)勢(shì)，例如15mm/f4.5等超廣角鏡...

浸沒(méi)式光刻機(jī)是通過(guò)在物鏡與晶圓之間注入超純水，等效縮短光源波長(zhǎng)并提升數(shù)值孔徑，從而實(shí)現(xiàn)更高分辨率的半導(dǎo)體制造**設(shè)備。2024年9月工信部文件顯示，國(guó)產(chǎn)氟化氬浸沒(méi)式光刻機(jī)套刻精度已達(dá)到≤8nm水平。該技術(shù)研發(fā)涉及浸液系統(tǒng)、光學(xué)控制等多項(xiàng)復(fù)雜工藝，林本堅(jiān)團(tuán)隊(duì)在浸...

2019年荷蘭阿斯麥公司推出新一代極紫外光刻系統(tǒng)，**了當(dāng)今**的第五代光刻系統(tǒng)，可望將摩爾定律物理極限推向新的高度 [5]。中國(guó)工程院《Engineering》期刊于2021年組建跨學(xué)科評(píng)選委員會(huì)，通過(guò)全球**提名、公眾問(wèn)卷等多階段評(píng)審，選定近五年內(nèi)完成且具...

安提基特拉機(jī)械，是為了計(jì)算天體在天空中的位置而設(shè)計(jì)的古希臘青銅機(jī)器，屬于模擬計(jì)算機(jī)。該機(jī)器于1900年在希臘安提基特拉島附近的安提基特拉沉船里被發(fā)現(xiàn)。制造年代約在西元前150年到100年之間?，F(xiàn)藏于希臘國(guó)家考古博物館。 [4]類似的工藝技術(shù)（天文鐘）在歐洲直到...

浸沒(méi)式光刻技術(shù)所面臨的挑戰(zhàn)主要有：如何解決曝光中產(chǎn)生的氣泡和污染等缺陷的問(wèn)題；研發(fā)和水具有良好的兼容性且折射率大于1．8的光刻膠的問(wèn)題；研發(fā)折射率較大的光學(xué)鏡頭材料和浸沒(méi)液體材料；以 及 有 效 數(shù) 值 孔 徑NA值 的 拓 展 等 問(wèn)題。針 對(duì) 這 些 難 ...

鏡頭的改變：在相同物距 和光圈的情況下，使用不同焦距的鏡頭可改變景深，鏡頭焦距越短，**深越大，對(duì)于超廣角鏡（8---15毫米），景深非常大，以致無(wú)需調(diào)焦，因?yàn)槊恳患?jí)光圈的景深都是清晰。光學(xué)工業(yè)鏡頭***用于反射度極高的物體定位檢測(cè)，如：金屬、玻璃、膠片、晶片...

糾偏裝置（Deviation rectifying device）是由美國(guó)美塞斯公司旗下FIFE品牌于1898年發(fā)明的機(jī)械裝置，主要用于修正卷材在傳輸過(guò)程中產(chǎn)生的橫向偏移。作為工業(yè)生產(chǎn)中的基礎(chǔ)設(shè)備，其通過(guò)傳感器檢測(cè)與驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)聯(lián)動(dòng)形成閉環(huán)控制，支持跟邊、對(duì)中、跟...

用廣角鏡頭拍攝的畫(huà)面。能在突出**主體和前景的同時(shí)，能有***的背景?？梢栽谳^小的環(huán)境里，拍到較多的景物，在相同的拍攝距離時(shí)，得到的景象比用標(biāo)準(zhǔn)鏡頭拍攝的要小。當(dāng)拍攝較近的景物時(shí)，會(huì)產(chǎn)生******變形，還會(huì)使前后景物之間的距離感增大。由于它的景深長(zhǎng)，很容易把...

安提基特拉機(jī)械以其小型化和其部分裝置的復(fù)雜性可與19世紀(jì)機(jī)械鐘表相比而聞名。它有超過(guò)30個(gè)齒輪，雖然麥可·萊特認(rèn)為它可多達(dá)72個(gè)有正三角形齒的齒輪。當(dāng)借由一個(gè)曲柄輸入一個(gè)日期，該機(jī)械就可算出日月或行星等其他天**置。因?yàn)樵摍C(jī)械是以地球表面觀測(cè)天球者為參考座標(biāo)，...

b、接近式曝光（Proximity Printing）。掩膜板與光刻膠層的略微分開(kāi)，大約為10～50μm?？梢员苊馀c光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷。但是同時(shí)引入了衍射效應(yīng)，降低了分辨率。1970后適用，但是其最大分辨率*為2～4μm。c、投影式曝光（Proj...

準(zhǔn)分子光刻技術(shù)作為當(dāng)前主流的光刻技術(shù)，主要包括：特征尺寸為0．1μm的248 nm KrF準(zhǔn)分子激光技術(shù)；特征尺寸為90 nm的193 nm ArF準(zhǔn)分子激光技術(shù)；特征尺寸為65 nm的193 nm ArF浸沒(méi)式技術(shù)（Immersion，193i）。其中193...

使用長(zhǎng)焦距鏡頭拍攝具有以下幾個(gè)方面的特點(diǎn)： [3]視角小所以，拍攝的景物空間范圍也小，在相同的拍攝距離處，所拍攝的影像大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭，適用于拍攝遠(yuǎn)處景物的細(xì)部和拍攝不易接近的被攝體 [3]。景深短所以，能使處于雜亂環(huán)境中的被攝主體得到突出。但給精確調(diào) 焦帶來(lái)了一...

廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。135照相機(jī)普通廣角鏡頭的焦距一般為38－24毫米，視角為60－84度；超廣角鏡頭的焦距為20－13毫米，視角為94-118度。由于廣角鏡頭的焦距短，視角大，在較短的拍攝距離范圍內(nèi)，能拍攝到較大面積的景物。所以，**...

2、廣角鏡頭使用遮光罩或?yàn)V色鏡時(shí)，很容易遮擋鏡頭視角的周圍，使像場(chǎng)發(fā)暗，而這一情況，在取景時(shí)不容易察覺(jué)，但在照片上卻很明顯。因此，運(yùn)用附件時(shí)， 一定要從說(shuō)明書(shū)上了解清楚它們的使用范圍。如果說(shuō)明書(shū)中沒(méi)有說(shuō)明，拍攝時(shí)就要加倍小心。3、電子閃光燈閃光涵蓋角一般與13...

1：可用機(jī)電式驅(qū)動(dòng)器或液壓缸作為驅(qū)動(dòng)動(dòng)力。2：快速、精確地對(duì)卷材進(jìn)行定位，使用的卷材寬度可達(dá)1930mm（76.0″）。3：低摩擦滾珠軸套和轉(zhuǎn)動(dòng)桿的設(shè)計(jì)。4：耐用的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)可長(zhǎng)時(shí)間連續(xù)使用，**降低維修的需要。5：可選配的伺服對(duì)中器提高設(shè)置和卷材線性速度。6：...

英特爾高級(jí)研究員兼技術(shù)和制造部先進(jìn)光刻技術(shù)總監(jiān)YanBorodovsky在去年說(shuō)過(guò)“針對(duì)未來(lái)的IC設(shè)計(jì)，我認(rèn)為正確的方向是具有互補(bǔ)性的光刻技術(shù)。193納米光刻是當(dāng)前能力**強(qiáng)且**成熟的技術(shù)，能夠滿足精確度和成本要求，但缺點(diǎn)是分辨率低。利用一種新技術(shù)作為193...

光致抗蝕劑，簡(jiǎn)稱光刻膠或抗蝕劑，指光照后能改變抗蝕能力的高分子化合物。光蝕劑分為兩大類。①正性光致抗蝕劑：受光照部分發(fā)生降解反應(yīng)而能為顯影液所溶解。留下的非曝光部分的圖形與掩模版一致。正性抗蝕劑具有分辨率高、對(duì)駐波效應(yīng)不敏感、曝光容限大、***密度低和無(wú)毒性等...

后烘方法：熱板，110～130C,1分鐘。目的：a、減少駐波效應(yīng)；b、激發(fā)化學(xué)增強(qiáng)光刻膠的PAG產(chǎn)生的酸與光刻膠上的保護(hù)基團(tuán)發(fā)生反應(yīng)并移除基團(tuán)使之能溶解于顯影液。顯影方法：a、整盒硅片浸沒(méi)式顯影（Batch Development）。缺點(diǎn)：顯影液消耗很大；顯影...

電子束光刻基本上分兩大類，一類是大生產(chǎn)光掩模版制造的電子束曝光系統(tǒng)，另一類是直接在基片上直寫(xiě)納米級(jí)圖形的電子束光刻系統(tǒng)。電子束光刻技術(shù)起源于掃描電鏡，**早由德意志聯(lián)邦共和國(guó)杜平根大學(xué)的G．Mollenstedt等人在20世紀(jì)60年代提出。電子束曝光的波長(zhǎng)取決...

光刻系統(tǒng)SUSS是一種應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器，其比較大基片尺寸為6英寸，可實(shí)現(xiàn)0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統(tǒng)通過(guò)精密光學(xué)曝光技術(shù)完成微電子器件的圖形轉(zhuǎn)移，為集成電路研發(fā)和生產(chǎn)提供關(guān)鍵工藝支持。比較大基片處理能力：支持直徑6英...

光刻系統(tǒng)是一種用于半導(dǎo)體器件制造的精密科學(xué)儀器，是制備高性能光電子和微電子器件不可或缺的**工藝設(shè)備 [1] [6-7]。其技術(shù)發(fā)展歷經(jīng)紫外（UV）、深紫外（DUV）到極紫外（EUV）階段，推動(dòng)集成電路制程不斷進(jìn)步 [3] [6]。當(dāng)前**的EUV光刻系統(tǒng)已實(shí)...

6.齒輪傳動(dòng)箱上蓋拆卸,內(nèi)部機(jī)件磨損及鍵位松動(dòng)狀況之檢查并進(jìn)行油槽清洗,潤(rùn)滑油換新及運(yùn)轉(zhuǎn)狀況,噪音,振動(dòng)測(cè)試檢查.7.傳動(dòng)系統(tǒng)各部位注油點(diǎn)之吐出油量及壓力測(cè)試與調(diào)整.8.離剎機(jī)構(gòu)之活塞動(dòng)作,剎車角度,離剎間隙及來(lái)令片磨耗量之測(cè)試點(diǎn)檢與必要調(diào)整.9.滑快導(dǎo)軌與導(dǎo)...

2024年9月工信部發(fā)布的技術(shù)指標(biāo)顯示，國(guó)產(chǎn)浸沒(méi)式光刻機(jī)已實(shí)現(xiàn)：1.套刻精度≤8nm [1]2.滿足28nm制程需求 [1]3.具備多重曝光技術(shù)適配能力研發(fā)過(guò)程中需突破：超純水循環(huán)系統(tǒng)的納米級(jí)污染控制高速掃描下的液體湍流抑制光路折射率穩(wěn)定性維持林本堅(jiān)團(tuán)隊(duì)在浸液...

c、水坑（旋覆浸沒(méi)）式顯影（Puddle Development）。噴覆足夠（不能太多，**小化背面濕度）的顯影液到硅片表面，并形成水坑形狀（顯影液的流動(dòng)保持較低，以減少邊緣顯影速率的變化）。硅片固定或慢慢旋轉(zhuǎn)。一般采用多次旋覆顯影液：***次涂覆、保持10～...

鏡頭的改變：在相同物距 和光圈的情況下，使用不同焦距的鏡頭可改變景深，鏡頭焦距越短，**深越大，對(duì)于超廣角鏡（8---15毫米），景深非常大，以致無(wú)需調(diào)焦，因?yàn)槊恳患?jí)光圈的景深都是清晰。光學(xué)工業(yè)鏡頭***用于反射度極高的物體定位檢測(cè)，如：金屬、玻璃、膠片、晶片...

CS型鏡頭With a 5 mm adapter ring, a C lens can be used on a CS-mount camera.U型鏡頭一種可變焦距的鏡頭，其法蘭焦距為47.526mm或1.7913in，安裝羅紋為M42×1。主要設(shè)計(jì)作35m...

魚(yú)眼鏡頭的體積較大。以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的魚(yú)眼鏡頭為例，當(dāng)將這種魚(yú)眼鏡頭安裝在體積較小的35毫米單鏡頭反光照相機(jī)機(jī)身上時(shí)，有一種“頭（鏡頭）大身體（機(jī)身）小”的感覺(jué)，且由于魚(yú)眼鏡頭重量不輕（如尼柯?tīng)?毫米/F2.8手動(dòng)對(duì)焦魚(yú)眼鏡頭重達(dá)5200克），...

德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯提出該裝置可能是公開(kāi)展示，地點(diǎn)或許是羅德島上的博物館或公共會(huì)堂。羅德島在當(dāng)時(shí)是以機(jī)械工程聞名，尤其是羅德島人擅長(zhǎng)的自動(dòng)機(jī)械。古希臘九大抒情詩(shī)人中的品達(dá)在他的第七首奧林匹克頌中提及：The animated figures stand...

選購(gòu)廣角數(shù)碼相機(jī)時(shí)除了要注意相機(jī)的整體性能外，還需要著重考察其鏡頭表現(xiàn)。鏡頭畸變情況是我們首先需要考慮的因素。一般來(lái)說(shuō)廣角下拍攝更容易產(chǎn)生畸變，但不同的相機(jī)所拍攝的照片變形的程度也不同，總體而言畸變?cè)捷p微越好。其次也要注意畫(huà)面的解析度，由于受到成本的限制，數(shù)碼...

在曝光過(guò)程中，需要對(duì)不同的參數(shù)和可能缺陷進(jìn)行跟蹤和控制，會(huì)用到檢測(cè)控制芯片/控片（Monitor Chip）。根據(jù)不同的檢測(cè)控制對(duì)象，可以分為以下幾種：a、顆?？仄≒article MC）：用于芯片上微小顆粒的監(jiān)控，使用前其顆粒數(shù)應(yīng)小于10顆；b、卡盤(pán)顆?？?..