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主要流程光復印工藝的主要流程如圖2：曝光方式常用的曝光方式分類如下：接觸式曝光和非接觸式曝光的區(qū)別，在于曝光時掩模與晶片間相對關(guān)系是貼緊還是分開。接觸式曝光具有分辨率高、復印面積大、復印精度好、曝光設(shè)備簡單、操作方便和生產(chǎn)效率高等特點。但容易損傷和沾污掩模版和...

42、始用擋料銷（板）始用擋料銷（板）是供材料起始端部送進時定位用的零件。始用擋料銷（板）都是移動式的。43、拼塊塊是組成一個完整凹模、凸模、卸料板或固定板等的各個拼合零件。44、擋塊（板）擋塊（板）是供經(jīng)側(cè)刃切出缺口的材料送進時定位用的淬硬零件，兼用以平衡側(cè)...

鏡頭的另一個重點在變焦能力。所謂的變焦能力包括光學變焦（optical zoom）與數(shù)碼變焦（digital zoom）兩種。兩者雖然都有助于望遠拍攝時放大遠方物體，但是只有光學變焦可以支持圖像主體成像后，增加更多的像素，讓主體不但變大，同時也相對更清晰。通常...

光刻機系統(tǒng)是材料科學領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備，通過光學成像原理將掩模版上的微細圖形精確轉(zhuǎn)移到光刻膠表面。系統(tǒng)配置1Kw近紫外光源與6V/30W顯微鏡燈適配器，配備氣動防震臺保障精密操作環(huán)境，其技術(shù)參數(shù)截至2020年11月24日仍在使用 [1]。通過光化學反應將掩模版上的...

放大率問題：光學鏡頭放大率問題，很多客戶可能對鏡頭放大率不了解或者認識不多，所以造成了對鏡頭使用的錯誤操作或者選購不到合適的鏡頭，因此，普密斯光學針對這一問題進行專業(yè)的講述，希望可以幫助大家更好的理解鏡頭參數(shù)問題。放 大 率 光學放大率影像大小相對于物體的放大...