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光刻系統(tǒng)是一種用于半導(dǎo)體器件制造的精密科學(xué)儀器，是制備高性能光電子和微電子器件不可或缺的**工藝設(shè)備 [1] [6-7]。其技術(shù)發(fā)展歷經(jīng)紫外（UV）、深紫外（DUV）到極紫外（EUV）階段，推動集成電路制程不斷進(jìn)步 [3] [6]。當(dāng)前**的EUV光刻系統(tǒng)已實...

用廣角鏡頭拍攝的畫面。能在突出**主體和前景的同時，能有***的背景?？梢栽谳^小的環(huán)境里，拍到較多的景物，在相同的拍攝距離時，得到的景象比用標(biāo)準(zhǔn)鏡頭拍攝的要小。當(dāng)拍攝較近的景物時，會產(chǎn)生******變形，還會使前后景物之間的距離感增大。由于它的景深長，很容易把...

電子束光刻基本上分兩大類，一類是大生產(chǎn)光掩模版制造的電子束曝光系統(tǒng)，另一類是直接在基片上直寫納米級圖形的電子束光刻系統(tǒng)。電子束光刻技術(shù)起源于掃描電鏡，**早由德意志聯(lián)邦共和國杜平根大學(xué)的G．Mollenstedt等人在20世紀(jì)60年代提出。電子束曝光的波長取決...

2006年時，萊特完成了他相信幾乎正確的復(fù)制品。萊特和安提基特拉機械研究計劃成員仍同時進(jìn)行安提基特拉機械的研究。萊特稍微修改他的模型，引進(jìn)了計劃團(tuán)隊建議的針狀和槽狀嚙合齒輪，這更精確模擬了月球的角速度異常變化。2007年3月6日他在希臘的雅典國家考古博物館展示...

四是，鏡頭的焦距越長，相機就必須把握得越穩(wěn)定，以避免影像模糊。經(jīng)驗準(zhǔn)則是只有當(dāng)快門速度至少等于鏡頭焦距毫米數(shù)的倒數(shù)時才能夠手持鏡頭進(jìn)行拍攝，也稱為“安全快門”。也就是說，當(dāng)快門速度低于1/100秒時就不能手持100mm鏡頭拍攝，低于1/500秒時就不能手持50...

目前，安提基特拉機械已被基本復(fù)原。 [5]以下是托尼·弗里思研究團(tuán)隊的***復(fù)原成果。安提基特拉裝置的制作者無論使用什么周期數(shù)據(jù)，都需要遵循三個標(biāo)準(zhǔn)：精確性、可分解性與經(jīng)濟(jì)性。簡省且高效，是安提基特拉裝置齒輪傳動系統(tǒng)的一個關(guān)鍵特征。新的行星周期數(shù)據(jù)可以納入齒輪...

德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯提出該裝置可能是公開展示，地點或許是羅德島上的博物館或公共會堂。羅德島在當(dāng)時是以機械工程聞名，尤其是羅德島人擅長的自動機械。古希臘九大抒情詩人中的品達(dá)在他的第七首奧林匹克頌中提及：The animated figures stand...

攝影者也許會有這樣的體會：在照相機上裝上一個遠(yuǎn)攝鏡頭并從單鏡頭反光照相機取景器中觀察，竟一時無法想象充盈于取景器畫面的景象在何方位，不得已，只好將眼睛離開照相機取景目鏡眺望實景，方搞清楚原來是鏡頭視野太窄，它所“見”到的只是人眼通常所見到的畫面中相當(dāng)小的一部分...

其主要成像原理是光波波長為10～14nm的極端遠(yuǎn)紫外光波經(jīng)過周期性多層膜反射鏡投射到反射式掩模版上，通過反射式掩模版反射出的極紫外光波再通過由多面反射鏡組成的縮小投影系統(tǒng)，將反射式掩模版上的集成電路幾何圖形投影成像到硅片表面的光刻膠中，形成集成電路制造所需要的...

長焦距鏡頭適于拍攝距離遠(yuǎn)的景物，景深小容易使背景模糊主體突出，但體積笨重且對動態(tài)主體對焦不易。35mm 相機長焦距鏡頭通常分為三級，135mm以下稱中焦距，135－500mm稱長焦距，500mm 以上稱超長焦距。120 相機的150mm的鏡頭相當(dāng)于35mm相機...

安提基特拉機械以其小型化和其部分裝置的復(fù)雜性可與19世紀(jì)機械鐘表相比而聞名。它有超過30個齒輪，雖然麥可·萊特認(rèn)為它可多達(dá)72個有正三角形齒的齒輪。當(dāng)借由一個曲柄輸入一個日期，該機械就可算出日月或行星等其他天**置。因為該機械是以地球表面觀測天球者為參考座標(biāo)，...

得指出的是，EUV光刻技術(shù)的研發(fā)始于20世紀(jì)80年代。**早希望在半周期為70nm的節(jié)點（對應(yīng)邏輯器件130nm節(jié)點）就能用上EUV光刻機 [1]?？墒牵@一技術(shù)一直達(dá)不到晶圓廠量產(chǎn)光刻所需要的技術(shù)指標(biāo)和產(chǎn)能要求。一拖再拖，直到2016年，EUV光刻機仍然沒能...

制造掩模版，比較靈活。但由于其曝光效率低，主要用于實驗室小樣品納米制造。而電子束曝光要適應(yīng)大批量生產(chǎn)，如何進(jìn)一步提高曝光速度是個難題。為了解決電子束光刻的效率問題，通常將其與其他光刻技術(shù)配合使用。例如為解決曝光效率問題，通常采用電子束光刻與光學(xué)光刻進(jìn)行匹配與混...

b、堅膜，以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護(hù)下表面的能力；c、進(jìn)一步增強光刻膠與硅片表面之間的黏附性；d、進(jìn)一步減少駐波效應(yīng)（Standing Wave Effect）。常見問題：a、烘烤不足（Underbake）。減弱光刻膠的強度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻...

5、刃壁刃壁是沖裁凹?？兹锌诘膫?cè)壁。6、刃口斜度刃口斜度是沖裁凹模孔刃壁的每側(cè)斜度。7、氣墊氣墊是以壓縮空氣為原動力的彈頂器。參閱“彈頂器”。8、反側(cè)壓塊反側(cè)壓塊是從工作面的另一側(cè)支持單向受力凸模的零件。9、導(dǎo)套導(dǎo)套是為上、下模座相對運動提供精密導(dǎo)向的管狀零件...

四是，鏡頭的焦距越長，相機就必須把握得越穩(wěn)定，以避免影像模糊。經(jīng)驗準(zhǔn)則是只有當(dāng)快門速度至少等于鏡頭焦距毫米數(shù)的倒數(shù)時才能夠手持鏡頭進(jìn)行拍攝，也稱為“安全快門”。也就是說，當(dāng)快門速度低于1/100秒時就不能手持100mm鏡頭拍攝，低于1/500秒時就不能手持50...

鏡頭的改變：在相同物距 和光圈的情況下，使用不同焦距的鏡頭可改變景深，鏡頭焦距越短，**深越大，對于超廣角鏡（8---15毫米），景深非常大，以致無需調(diào)焦，因為每一級光圈的景深都是清晰。光學(xué)工業(yè)鏡頭***用于反射度極高的物體定位檢測，如：金屬、玻璃、膠片、晶片...

2、廣角鏡頭使用遮光罩或濾色鏡時，很容易遮擋鏡頭視角的周圍，使像場發(fā)暗，而這一情況，在取景時不容易察覺，但在照片上卻很明顯。因此，運用附件時， 一定要從說明書上了解清楚它們的使用范圍。如果說明書中沒有說明，拍攝時就要加倍小心。3、電子閃光燈閃光涵蓋角一般與13...

用廣角鏡頭拍攝的畫面。能在突出**主體和前景的同時，能有***的背景?？梢栽谳^小的環(huán)境里，拍到較多的景物，在相同的拍攝距離時，得到的景象比用標(biāo)準(zhǔn)鏡頭拍攝的要小。當(dāng)拍攝較近的景物時，會產(chǎn)生******變形，還會使前后景物之間的距離感增大。由于它的景深長，很容易把...

光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時...

攝影者也許會有這樣的體會：在照相機上裝上一個遠(yuǎn)攝鏡頭并從單鏡頭反光照相機取景器中觀察，竟一時無法想象充盈于取景器畫面的景象在何方位，不得已，只好將眼睛離開照相機取景目鏡眺望實景，方搞清楚原來是鏡頭視野太窄，它所“見”到的只是人眼通常所見到的畫面中相當(dāng)小的一部分...

德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯提出該裝置可能是公開展示，地點或許是羅德島上的博物館或公共會堂。羅德島在當(dāng)時是以機械工程聞名，尤其是羅德島人擅長的自動機械。古希臘九大抒情詩人中的品達(dá)在他的第七首奧林匹克頌中提及：The animated figures stand...

校準(zhǔn)的基本要求校準(zhǔn)應(yīng)滿足的基本要求如下：1.環(huán)境條件校準(zhǔn)如在檢定(校準(zhǔn))室進(jìn)行，則環(huán)境條件應(yīng)滿足實驗室要求的溫度、濕度等規(guī)定。校準(zhǔn)如在現(xiàn)場進(jìn)行，則環(huán)境條件以能滿足儀表現(xiàn)場使用的條件為準(zhǔn)。2.儀器作為校準(zhǔn)用的標(biāo)準(zhǔn)儀器其誤差限應(yīng)是被校表誤差限的1/3~1/10。3...

鏡頭的改變：在相同物距 和光圈的情況下，使用不同焦距的鏡頭可改變景深，鏡頭焦距越短，**深越大，對于超廣角鏡（8---15毫米），景深非常大，以致無需調(diào)焦，因為每一級光圈的景深都是清晰。光學(xué)工業(yè)鏡頭***用于反射度極高的物體定位檢測，如：金屬、玻璃、膠片、晶片...

光刻技術(shù)是現(xiàn)代集成電路設(shè)計上一個比較大的瓶頸?，F(xiàn)cpu使用的45nm、32nm工藝都是由193nm液浸式光刻系統(tǒng)來實現(xiàn)的，但是因受到波長的影響還在這個技術(shù)上有所突破是十分困難的，但是如采用EUV光刻技術(shù)就會很好的解決此問題，很可能會使該領(lǐng)域帶來一次飛躍。但是涉...

前方的轉(zhuǎn)盤可能至少有三個指針，***個指針指示日期，另外兩個則分別指示太陽和月球位置。月球的指針已被調(diào)整過**月球軌道的變化，因此相信太陽的指針也有過類似的調(diào)整，但相關(guān)機制的齒輪（如有）已經(jīng)不存。前方轉(zhuǎn)盤的第二個功能則是有一個月球的球形，做為月相指示。該機械上...

普萊斯在以上文章中發(fā)表的模式是較早基于放射影像所見該機械內(nèi)部結(jié)構(gòu)之后，提出的較早理論重建模式。他的模式中，機械前方的轉(zhuǎn)盤**太陽和月球在古埃及歷法上黃道帶的位置。在儀器后面的上方轉(zhuǎn)盤則顯示一個四年周期，并且和顯示周期為235個朔望月的默冬章相關(guān)，這和19個回歸...

放大率問題：光學(xué)鏡頭放大率問題，很多客戶可能對鏡頭放大率不了解或者認(rèn)識不多，所以造成了對鏡頭使用的錯誤操作或者選購不到合適的鏡頭，因此，普密斯光學(xué)針對這一問題進(jìn)行專業(yè)的講述，希望可以幫助大家更好的理解鏡頭參數(shù)問題。放 大 率 光學(xué)放大率影像大小相對于物體的放大...

19.超負(fù)荷保護(hù)裝置之油路清潔,油室清洗,油品換新及壓力動作與功能測試調(diào)整.20.主馬達(dá)V型皮帶磨耗及張力狀況檢查,調(diào)整.21.離剎機構(gòu)各部件拆卸分解(飛輪不含)清潔保養(yǎng),間隙檢查調(diào)整及裝復(fù)調(diào)試.22.平衡器另部件拆卸分解,清潔檢查及裝復(fù)調(diào)試.C.每使用600...

主要流程光復(fù)印工藝的主要流程如圖2：曝光方式常用的曝光方式分類如下：接觸式曝光和非接觸式曝光的區(qū)別，在于曝光時掩模與晶片間相對關(guān)系是貼緊還是分開。接觸式曝光具有分辨率高、復(fù)印面積大、復(fù)印精度好、曝光設(shè)備簡單、操作方便和生產(chǎn)效率高等特點。但容易損傷和沾污掩模版和...